课题基金 / 基金详情

非平衡プラズマを用いた化学反応による高水素吸蔵性カーボンナノチューブの気相合成

非平衡プラズマを用いた化学反応による高水素吸蔵性カーボンナノチューブの気相合成
非平衡等离子体化学反应气相合成高储氢碳纳米管
批准号:
14750149
负责人:
石丸 和博
金额:
$2.18万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2002
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2002 至 2004

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新たな水素吸蔵物質として注目されている単層カーボンナノチューブの合成には、化学的気相合成法を用いることが最も有効な手法の一つと考えられている。本研究では、合成反応場に、高い熱的・化学的非平衡性を有する放電プラズマを導入する方法を提案し、この特性を利用した化学反応により、高水素吸蔵性カーボンナノチューブを合成する指針を得ることを目的としている。3年目の本研究では、直流グロー放電プラズマに注目し、原料ガスとなる高純度アセチレンと、アセチレンの高反応性を制御し放電の発生・維持を容易にする働きを有するヘリウムとの混合ガス中における特性を調査した。なお、プラズマ発生装置において、熱フィラメント支援による原料ガスの分解を可能にするフィラメント型電極を陰極側に採用した。ヘリウムの混合、および陰極側が電極近傍で不平等電界による高い電界強度を得られる形状であることから、高いガス圧でも放電が発生・維持できるプラズマ状態が実現された。このヘリウムの働きについては、RF交流放電の場合と同様、ヘリウムの低い放電開始電界強度とペニング効果が考えられる。しかし、圧力ごとの電流-電圧特性には、圧力依存性が顕著に表れた。プラズマ状態は印加電圧で制御されることが多く、印加電圧の上昇に対する電流量の上昇割合は小さい方が良い。また、同印加電圧に対する電流量についても、ジュール発熱を抑制するために少ない方がよい。すなわち、本放電プラズマにおいては、可能な限り低い圧力条件が材料合成に適していることが明らかになった。さらに、電極表面での付着物質状況から、本放電プラズマによって、カーボンナノチューブを合成できる可能性が示唆された。また、本放電プラズマ発生技術は、流動層方式を用いた大気圧放電によるオゾン生成にも用いられ、流動層を形成する粒子層を適切な状態にすることで、高効率・高濃度でのオゾン生成を可能にした。
期刊论文(7)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
大気圧放電を用いた流動層型反応場におけるオゾン生成
利用常压放电在流化床反应场中产生臭氧
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: 岐阜工業高等専門学校紀要 40
影响因子: --
作者: [石丸 和博]
通讯作者: 石丸 和博
石丸和博: "RF放電プラズマを用いた炭素材料のCVDプロセスに及ぼすパルス変調の影響"第40回日本伝熱シンポジウム講演論文集. (未定). (2003)
Kazuhiro Ishimaru:“脉冲调制对使用射频放电等离子体的碳材料 CVD 过程的影响”第 40 届日本传热研讨会论文集(待定)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
Kazuhiro ISHIMARU: "Application of Pulse modulated RF Discharge Plasma to CVD of Carbon Materials from C2H2-H2 Mixture"Proceedings of 16th International Symposium on Plasma Chemistry(ISPC16). (未定). (2003)
Kazuhiro ISHIMARU:“脉冲调制射频放电等离子体在 C2H2-H2 混合物碳材料的 CVD 中的应用”第 16 届国际等离子体化学研讨会论文集(ISPC16)(待定)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
伊藤正和: "パルス変調RF放電プラズマの物質合成プロセスへの応用に関する研究"日本機械学会東海支部第53期総会講演会講演論文集. 043・1. 163-164 (2004)
伊藤正和:“脉冲调制射频放电等离子体在材料合成过程中的应用研究”日本机械工程学会东海分会第53届大会论文集043・1(2004年)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
7
    大気圧非平衡プラズマジェットを用いた治療用活性酸素・窒素種の選択的高効率生成
    • 批准号:
      22K03956
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.66万
    • 财政年份:
      2022
    • 负责人:
      石丸 和博
    • 依托单位:
    大気圧非平衡プラズマを用いた化学反応による高品質シリコン酸化膜の気相合成
    • 批准号:
      12750173
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $1.54万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      石丸 和博
    • 依托单位:
    非平衡プラズマ状態下での有機シリコン源と酸素によるシリコン酸化膜の化学的気相合成
    • 批准号:
      09750241
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $1.6万
    • 财政年份:
      1997
    • 负责人:
      石丸 和博
    • 依托单位:
    無声放電を用いた非平衡プラズマによる珪酸エチルと酸素からのシリコン酸化膜合成
    • 批准号:
      08750251
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $0.64万
    • 财政年份:
      1996
    • 负责人:
      石丸 和博
    • 依托单位:
    海外基金