课题基金 / 基金详情

パラジウム触媒を用いる交差カップリングのための多官能性合成ブロックの新規創製と合成的応用

パラジウム触媒を用いる交差カップリングのための多官能性合成ブロックの新規創製と合成的応用
钯催化交叉偶联多功能构件的新创及合成应用
批准号:
04F03651
负责人:
檜山 爲次郎
金额:
$0.77万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 --

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
多官能性合成ブロックとして金属多置換炭化水素に着目し,まずジハロシクロプロパンの1,1-ジボリル化を検討した。すなわち,混合溶媒THF/Et_2O (2:1)中ビス(ピナコラート)ジボロン共存下1,1-ジブロモシクロプロパンにブチルリチウムを-110℃で作用させると,対応する1,1-ジボリルシクロプロパンを収率よく与えることを見つけた。さまざまな1,1-ジブロモシクロプロパンがこのジボリル化反応に適用可能である。得た1,1-ジボリルシクロプロパンに,アルキリデン型リチウムカルベノイドを作用させると,'炭素-ホウ素結合へのアルキリデン基挿入反応が進行し,対応するジボリルビニルシクロプロパンが収率よく得られることも見つけた。また,生成物の単結晶X線構造解析から,アルキリデンの挿入は立体障害の少ないホウ素側で立体特異的に進行していることがわかった。さらに13-クロロプロピニルリチウムをジボリル体に作用させると,ジボリルアレニルシクロプロパンが立体選択的に合成できるごとを明らかにした。得たアレニルシクロプロパンは,ロジウム触媒存在下加熱すると1,2-ジボリルシクロペンテンに異性化させることができることも見つけた。またジボロンに代えて(ジメチルフェニルシリル)(ピナコラート)ボランを用いると,適用範囲は比較的立体障害の少ないジブロモシクロプロパンに限られるものの,対応する1,1-シリルホウ素化反応が高立体選択的に進行することも明らかにした。
英文摘要
多官能性合成ブロックとして金属多置換炭化水素に着目し,まずジハロシクロプロパンの1,1-ジボリル化を検討した。すなわち,混合溶媒THF/Et_2O (2:1)中ビス(ピナコラート)ジボロン共存下1,1-ジブロモシクロプロパンにブチルリチウムを-110℃で作用させると,対応する1,1-ジボリルシクロプロパンを収率よく与えることを見つけた。さまざまな1,1-ジブロモシクロプロパンがこのジボリル化反応に適用可能である。得た1,1-ジボリルシクロプロパンに,アルキリデン型リチウムカルベノイドを作用させると,'炭素-ホウ素結合へのアルキリデン基挿入反応が進行し,対応するジボリルビニルシクロプロパンが収率よく得られることも見つけた。また,生成物の単結晶X線構造解析から,アルキリデンの挿入は立体障害の少ないホウ素側で立体特異的に進行していることがわかった。さらに13-クロロプロピニルリチウムをジボリル体に作用させると,ジボリルアレニルシクロプロパンが立体選択的に合成できるごとを明らかにした。得たアレニルシクロプロパンは,ロジウム触媒存在下加熱すると1,2-ジボリルシクロペンテンに異性化させることができることも見つけた。またジボロンに代えて(ジメチルフェニルシリル)(ピナコラート)ボランを用いると,適用範囲は比較的立体障害の少ないジブロモシクロプロパンに限られるものの,対応する1,1-シリルホウ素化反応が高立体選択的に進行することも明らかにした。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
分子内配位を利用した高配位ケイ素反応剤を用いる遷移金属触媒反応
  • 批准号:
    16033234
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $2.94万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    檜山 爲次郎
  • 依托单位:
有機ケイ素化合物を用いる汎用型クロスカップリング反応とタンデム反応の開発
  • 批准号:
    15036236
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $0.96万
  • 财政年份:
    2003
  • 负责人:
    檜山 爲次郎
  • 依托单位:
機能物質指向型多ケイ素環状化合物の効率合成
  • 批准号:
    14044044
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $2.88万
  • 财政年份:
    2002
  • 负责人:
    檜山 爲次郎
  • 依托单位:
2,3,5,6,7,8-ヘキサシラビシクロ[2.2.2]オクタンを基盤とする新規液晶化合物の創製
  • 批准号:
    02F00383
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $0.83万
  • 财政年份:
    2002
  • 负责人:
    檜山 爲次郎
  • 依托单位:
海外基金