Untersuchung des Ausheilverhaltens von ZnO: Implantation und Quasi-Substrate

这句话的意思是：“这是一种很吸引人的方式。”在此基础上进行了详细的氧化锌-施希登材料的植入实验。这是，模具和p-Dotierung zu Grunde Liegende机械师Sowie kritische参数für eine植入-技术在氧化锌-材料系统aufzuklären bzw.zu erarbeiten，嗯möglichst weitgehende freiheiten beder der Kontrolle der elektrischen Eigenschaften zu erhalten。这是一种具有吸引性的氧化锌溶胶和准衬底材料。Zur Herstellung von准底物是Schichten auf preiswarte底物的过敏反应。他说：“这是一件非常好的事情。HIERDURCH Könnnten z.B.Auch Silizium-versehen MIT Geeigneten Pufferschichten Aus ZnO-ALS Unterlage für die Ebitaxie von Halbleiter-Bauelementen auf ZnO-base dienen.这是一种交替的准衬底尖晶石，具有很强的吸引性，它是一种非晶态聚合物。此外，材料的基础是氧化锌-施希滕和镁-镉-氧化锌-异质结晶器，模具手套在拉曼柴油项目中被发现。

Das attraktive Ausheilverhalten von ZnO soll im Rahmen dieses Projektes in zweierlei Hinsicht untersucht bzw. ausgenutzt werden. Es soll eienrseits die Implantation mit nachfolgendem Ausheilen der ZnO-Schichten detailliert untersucht werden. Ziel ist es, die der p-Dotierung zu Grunde liegende Mechanismen sowie kritische Parameter für eine Implantations-Technologie im ZnO-Materialsystem aufzuklären bzw. zu erarbeiten, um möglichst weitgehende Freiheiten bei der Kontrolle der elektrischen Eigenschaften zu erhalten. Das attraktive Ausheilverhalten von ZnO soll darüber hinaus zur Herstellung von Quasi-Substraten genutzt werden. Zur Herstellung von Quasi-Substraten werden Schichten auf preiswerte Substrate mit allerdings meist hoher Gitterfehlpassung aufgebracht. Die Qualität der aufgewachsenen Schichten kann durch geeignete Verfahren optimiert werden. Hierdurch könnten z.B. auch Silizium - versehen mit geeigneten Pufferschichten aus ZnO - als Unterlage für die Epitaxie von Halbleiter-Bauelementen auf ZnO-Basis dienen. Bei der Herstellung von alternativen Quasi-Substraten spielt wiederum das attraktive Ausheilverhalten von amorphen oder polykristallinen ZnO-Schichten eine wichtige Rolle. Als Materialbasis dienen ZnO-Schichten und MgZnO-CdZnO-Heterostrukturen, die mittels MOCVD im Rahmen dieses Projekt hergestellt werden sollen.