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Photonic structures based on silicon: Characterization and physical properties of Si-nanocrystals with defined sizes

基于硅的光子结构：具有确定尺寸的硅纳米晶体的表征和物理性质

基本信息

批准号：
5353002
负责人：
Professorin Dr. Margit Zacharias
金额：
--
依托单位：
Institut für Mikrosystemtechnik (IMTEK)
依托单位国家：
德国
项目类别：
Research Grants
财政年份：
2002
资助国家：
德国
起止时间：
2001-12-31 至 2008-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5353002?language=en
关键词：
Photonic structures based silicon Characterization

项目摘要

Die Herstellung von SiOx/SiO2 Übergitterstrukturen repräsentiert einen neuartigen und von uns zum Patent angemeldeten Herstellungsansatz für stark lumineszierende Siliziumnanokristalle. Die Realisierung von SiOx/SiO2 Übergitterstrukturen mittels reaktivem Verdampfen, thermischer Phasenseparation und Kristallisation ermöglicht dabei erstmals, Teilchengröße, Teilchendichte und Teilchenposition separat zu fixieren. Mit diesem Verfahren können die Siliziumnanokristalle in einer spezifischen Tiefe, mit einer gewünschten Anzahl von Schichten und einer spezifischen Dichte realisiert werden. Der Herstellungsprozess ist vollkompatibel zur normalen Siliziumtechnologie, ausgesprochen einfach und gut kontrollierbar. Das Verfahren erlaubt dabei, diese Strukturen auf ganzen Siliziumwafern herzustellen und in photonische Strukturen zu integrieren. Die Strukturen sollen mittels spektroskopischer und struktureller Verfahren korreliert auf ihre optischen und strukturellen Eigenschaften untersucht werden. Voruntersuchungen der Filme zeigen eine Photolumineszenz mit Intensitäten vergleichbar zu porösem Si und eine kontinuierliche Blauverschiebung der Maximumposition von 960 nm zu 810 nm mit kleiner werdendem Kristalldurchmesser. Aufbauend auf unseren bisherigen Vorarbeiten wollen wir die Strukturen einerseits hinsichtlich ihrer optischen Qualität und Beherrschbarkeit verbessern und andererseits durch Verkleinern der Schichtdicke zu Strukturen mit annähernd monodisperser Kristallgröße von unter 2 nm vorstoßen. Dies soll es ermöglichen, den Einfluss einer stark eingeschränkten Teilchengröße auf die optischen Eigenschaften zu untersuchen. Der Einbau dieser aktiven emittierenden Schichten in photonische Strukturen soll demonstriert werden.

这是一项新的专利和新的专利技术。SiO_x/SiO_2；SiO_2；SiO_2；麻省理工学院是一家专门从事这项工作的公司，它的主要工作就是实现这一点。这是一种新的技术，也是一种新的技术。他说：“这是一件很重要的事情，我不知道该怎么办。他说：“这是一种特殊的行为方式，它是我们的最佳选择。”960 nm ZU 810 nm MIT Kleiner Kleiner被称为KristallduchMesser。在2 nm的范围内，所有的光和光都不同于传统的语言和技术，而不是单一的分散器。他说：“我不知道怎么回事，我不知道怎么回事。”在光电子技术领域，我们还发现了一种新的技术。