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Schichtstrukturdesign für Antimonid-III-V-Halbleiter-Quantenfilme - einfache Berechnungsmethoden und experimentelle Überprüfung

Schichtstrukturdesign für Antimonid-III-V-Halbleiter-Quantenfilme - einfache Berechnungsmethoden und experimentelle Überprüfung
锑化物III-V族半导体量子薄膜层状结构设计——简单计算方法与实验验证
批准号:
5352994
负责人:
Professor Dr. Henning Fouckhardt
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2002
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2001-12-31 至 2004-12-31

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项目成果

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Für das tägliche Design komplizierter III-V-Halbleiter-Quantenfilmstrukturen in Epitaxielaboratorien fehlt es an einfachen Berechnungsverfahren, die schnell und genau durchzuführen sind. Wir schlagen hier zur Lösung der eindimensionalen zeitunabhängigen Schrödinger-Gleichung zum einen ein einfaches Ein-BandEffektiv-Masse-Modell vor, das von einer verbesserten "Schieß"Methode Gebrauch macht. Die Praktikabilität des Ansatzes und der Annahmen soll an molekularstrahlepitaktisch zu wachsenden III-V-Halbleiterstrukturen mit Typ I- und Typ II-Heteroübergängen im AlGaInAsSb-Materialsystem überprüft werden. Zum anderen soll ein effizienter und einfacher Mehrband-Algorithmus auf Basis eines verbesserten Finite-Differenzen-Schieß-Verfahrens, implementiert und experimentell überprüft werden, der für komplizierte Mehrfachquantenfilm- und Übergitterstrukturen geeignet ist.
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