Optische Galois-Streuscheiben

光学伽罗瓦扩散器

• 批准号: 82285874
• 负责人: Professor Dr. Henning Fouckhardt
• 金额: --
• 依托单位: Arbeitsgruppe Integrierte Optoelektronik und Mikrooptik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2007-12-31 至 2011-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/82285874?language=en
• 关键词: Optische; Galois; Streuscheiben

Galois-Streuscheiben sind seit mehreren Jahrzehnten aus der Akustik und Anwendungen zur Verbesserung des Klangeindrucks in Opernsälen durch Unterdrückung der spekularen Reflexion bekannt. Im Fall binärer Höhenreliefs handelt es sich um dicht angeordnete Quader, deren Querabmessung eine halbe (Mitten-) Wellenlänge und deren Höhe (für senkrechten Einfall) im Reflexionsfall eine Viertelwellenlänge oder Null beträgt. Die reflektierenden oder auch transmittierenden (Höhe bei „1-Bits“ dann gleich halbe Wellenlänge) Höhenrelief-Bitmuster basieren auf Galois’schen Maximal-Zahlenfolgen. In der Optik haben solche Strukturen bisher keine Realisierung und keine Anwendung erfahren, weil die Herstellungsgenauigkeiten kaum zu erreichen waren. Mittlerweile ist die Elektronenstrahllithographie so weit entwickelt, dass solche Strukturen machbar erscheinen. Zum Design und zur Optimierung der Strukturen sollen Berechnungen durchgeführt werden. Die Streueigenschaften sollen experimentell untersucht werden. Um das Verfahren für potenzielle Anwendungen kostengünstig zu halten, soll auch die Nanoimprintlithographie in ein optisches Polymer auf Basis eines elektronenstrahllithographisch erzeugten Glas-„Masters“ zum Einsatz kommen.

[4][郭志刚-施特拉斯基。][font =宋体][font =宋体][font =宋体][font =宋体]。Im Fall binärer Höhenreliefs handelt es sich um dicht angerordnete Quader, deren Querabmessung eine halbe (Mitten-) Wellenlänge和deren Höhe (f<s:1> r senkrechten efall) Im Reflexionsfall eine Viertelwellenlänge oder Null beträgt。Die reflektierenden oder auch transmittierenden (Höhe bei " 1-Bits " dann gleich halbe Wellenlänge) Höhenrelief-Bitmuster basieren auf Galois ' s schen Maximal-Zahlenfolgen。在der Optik haben solche Strukturen bisher keine Realisierung和keine Anwendung erfahren中，我们将die Herstellungsgenauigkeiten kaum zu erreichen waren。同时，我们还将电子光刻技术应用于电子光刻技术，并将其应用于电子光刻技术。设计与结构优化与结构优化与结构优化[j]。实验证明了这一点。在光学材料中使用纳米压印技术，在光学材料中使用纳米压印技术，在光学材料中使用电子压印技术，在光学玻璃中使用纳米压印技术。