Al-freie Antimonid-Laser auf GaSb- und InAs-Substrat und der Weg dorthin
GaSb 和 InAs 基底上的无铝锑化物激光器及其实现方法
基本信息
- 批准号:5360150
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Research Grants
- 财政年份:2002
- 资助国家:德国
- 起止时间:2001-12-31 至 2004-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Antimonid-Halbleiter-Laser sind vielversprechende Mittelinfrarot-Lichtquellen, für die häufig das AlGalnAsSb-Materialsystem auf GaSb-, seltener auf InAs-Substrat verwendet wird. Da Alhaltige Schichten oxidieren und nicht für Laser mit relativ hoher Leistung geeignet sind, soll im Projekt nach Vorarbeiten mit Al-haltigen Schichtenfolgen auf Al erst in der aktiven Schichtenfolge, dann auch in der Wellenleiter-Überstruktur verzichtet werden - immer mit dem Ziel optisch gepumpte kantenemittierende Antimonid-Halbleiterlaser zu entwickeln. Das optische Pumpen erlaubt eine schnelle Kontrolle der Wachstumsqualität und der zusammensetzungsbedingten Veränderungen. Auch Vorarbeiten für ein späteres elektrisches Pumpen sollen durchgeführt werden. Sowohl GaSb- als auch InAs-Substrate kommen zum Einsatz. Die molekularstrahlepitaktisch gewachsenen Laserstrukturen sollen verspannungskompensiert oder gitterangepasst sein; im zweiten Fall muss mit ternären oder quaternären Schichten gearbeitet werden. Bei vollständiger Al-Freiheit werden Leckwellenleiter-Überstrukturen zur Wellenführung eingesetzt.
Antimonid-Halbleiter-Laser - sinveveversprechende mittelinfrared - lichtquellen, f<s:1> r die häufig as alalnassb - materialsystem of GaSb-, seltener of inas - substrate verwendet wind。与其他Leistung geeignet激光器相比,Alhaltige Schichten氧化和夜间<s:1>激光激光器,在Projekt nach vorarbeten mit Al-haltigen Schichtenfolgen和Al- ertiven Schichtenfolge中,在der Wellenleiter-Überstruktur verzichtet werden - immer mit Ziel optisch gepumpte kantenemitereende antimonid - halbleiter激光器中。Das optische Pumpen erlaut eine schnelle control der Wachstumsqualität and der zusammensetzungsbedingten Veränderungen。电力系统与电力系统之间的关系:电力系统与电力系统之间的关系。Sowohl GaSb-也称为inch - substrate kommen zum Einsatz。激光结构与光刻技术;激光结构与光刻技术;im zweiten Fall muss mit ternären oder quaternären Schichten gearbeitet werden。Bei vollständiger Al-Freiheit werden Leckwellenleiter-Überstrukturen zur wellenf<e:1> hhrung eingesetzt。
项目成果
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