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Development of mictamict-alloy electrode and interconnect for nanometer scale ULSI device

Development of mictamict-alloy electrode and interconnect for nanometer scale ULSI device
纳米级超大规模集成电路器件用密胺合金电极和互连线的开发
批准号：
19686004
负责人：
KONDO Hiroki
金额：
$17.06万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2007 至 2008
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19686004/
关键词：
アモルファスミクタミクト微結晶粒メタルゲート遷移金属窒化物価電子帯スペクトル抵抗変化メモリMOSキャパシタ仕事関数抵抗率

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英文摘要
本研究では超々大規模集積回路(ULSI)の更なる高性能化に向け、ミクタミクト構造(アモルファス層と微結晶粒の混合状態)を有する遷移金属(TM)-Si-Nを用いた配線・ゲート電極の開発を行った。具体的にはチタン(Ti)-Si-Nおよびハフニウム(Hf)-Si-Nの結晶構造および電気的特性について、窒素組成依存性および熱処理温度依存性を詳細に調べ、膜中における微結晶粒の形成過程および構造、それらと電気的特性との相関を明らかにした。
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会议论文
Ti-Si-NおよびHf-Si-Nの抵抗率における窒素濃度および熱処理盤依存性
氮浓度和热处理板对 Ti-Si-N 和 Hf-Si-N 电阻率的依赖性
DOI： --
发表时间： 2008
期刊：
影响因子： --
作者： [宮本和明, ベン・アーバン, 古米孝平, 近藤博基, 財満鎭明]
通讯作者： 財満鎭明
Nitrogen-Content Dependence of Crystalline Structures and Resistivity of Hf-Si-N Gate Electrodes for Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistors
金属氧化物半导体场效应晶体管 Hf-Si-N 栅电极晶体结构和电阻率的氮含量依赖性
DOI： --
发表时间： 2009
期刊： Jpn. J. Appl. Phys. Vol.48
影响因子： --
作者： [K. Miyamoto, K. Furumai, B. E. Urban, H. Kondo, and S. Zaima]
通讯作者： and S. Zaima
Thermal Stability and Scalability of Mictamict Ti-Si-N Metal-Oxide-Semiconductor Gate Electrodes
混态 Ti-Si-N 金属氧化物半导体栅电极的热稳定性和可扩展性
DOI： --
发表时间： 2009
期刊： Japanese Journal of Applied Physics 48
影响因子： --
作者： [Hiroki Kondo, Kouhei Furumai, Mitsuo Sakashita, Akira Sakai, and Shigeaki Zaima]
通讯作者： and Shigeaki Zaima
高窒素濃度Hf-Si-Nの結晶構造および抵抗率
高氮浓度Hf-Si-N的晶体结构和电阻率
DOI： --
发表时间： 2009
期刊：
影响因子： --
作者： [宮本和明, 近藤博基, 坂下満男, 財満鎭明]
通讯作者： 財満鎭明
共 8 条
    Location choices of households and industries and the location inequilibrium in an economy with aging population and declining birthrate
    • 批准号：
      22530241
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2010
    • 负责人：
      KONDO Hiroki
    • 依托单位：
      Sophia University
    On the Requirements for the Advanced Remote Lectures over High Speed Network
    • 批准号：
      13480048
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $6.21万
    • 财政年份：
      2001
    • 负责人：
      KONDO Hiroki
    • 依托单位：
      Saga University
    Development of direct observation technique of single electron trap and investigation of degradation mechanism of ultra-thin gate dielectric films
    • 批准号：
      13305005
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额：
      $36.19万
    • 财政年份：
      2001
    • 负责人：
      KONDO Hiroki
    • 依托单位：
      Nagoya University
    Characterization of Biotin Transporters
    • 批准号：
      10680569
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.11万
    • 财政年份：
      1998
    • 负责人：
      KONDO Hiroki
    • 依托单位：
      Kyushu Institute of Technology