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on-Beam-Assisted Deposition of Hard cBN Films and Internal Stress Relaxation by Laminated layer

硬质 cBN 薄膜的束上辅助沉积和层压层的内应力松弛

基本信息

批准号：
20560084
负责人：
UCHIDA Hitoshi
金额：
$ 2.91万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2008
资助国家：
日本
起止时间：
2008 至 2010
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20560084/
关键词：
機械材料長寿命化薄膜イオンビーム内部応力

项目摘要

Boron nitride (BN) films were prepared by depositing B vapor under simultaneous irradiation of N ions, that is ion mixing and vapor deposition technique. The effects of processing parameters on the internal stress of films were investigated. As a result, compressive internal stress increases at low acceleration voltage and high transport ratio B/N, of which the conditions correspond to those for formation of cubic BN phase. The hardness also becomes high at these conditions and there is a high negative correlation between internal stress and hardness of BN films. Especially, relaxation of internal stress without degradation of high hardness can be achieved when the crystal structure of inner layer is hexagonal BN.

采用氮离子同时辐照B气相沉积技术，即离子混合气相沉积技术制备了氮化硼（BN）薄膜。研究了工艺参数对薄膜内应力的影响。结果，在低加速电压和高输运比B/N下，压缩内应力增加，其条件对应于形成立方BN相的条件。在这些条件下，硬度也变高，并且BN膜的内应力与硬度之间存在高度负相关性。特别是，当内层的晶体结构为六方BN时，可以实现内应力的松弛而不降低高硬度。

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Effects of Processing Parameters on Internal Stress of BN Films Prepared by Ion Mixing and Vapor Deposition Technique, Frontier of Applied Plasma Technology

工艺参数对离子混合和气相沉积技术制备BN薄膜内应力的影响，等离子体技术应用前沿

DOI：
发表时间：
2008
期刊：
High Temperature Society of Japan Vol.1
影响因子：
0
作者：
B. Leng;S. Hanaki;M. Yamashita;H. Uchida
通讯作者：
H. Uchida

Evaluation and Relaxation of Internal Stress of BN Films Prepared by Ion Mixing and Vapor Deposition

离子混合和气相沉积制备BN薄膜的内应力评价及松弛

DOI：
发表时间：
2009
期刊：
Proc. 7th Int. Symp. on Applied Plasma Science (ISAPS'09), Hamburg, Germany Vol.7
影响因子：
0
作者：
S. Hanaki;B. Leng;H. Uchida
通讯作者：
H. Uchida

Internal Stress Analysis of BN Films by Molecular Dynamics Simulation

通过分子动力学模拟分析 BN 薄膜的内应力

DOI：
发表时间：
2009
期刊：
Proc. 7th Int.Symp. on Applied Plasma Science (ISAPS'09), Hamburg, Germany Vol.7
影响因子：
0
作者：
K. Mukoyama;S. Hanaki;H. Uchida
通讯作者：
H. Uchida

イオンミキシング蒸着法により作製したBN薄膜の内部応力に及ぼす成膜条件の影響(続報)

成膜条件对离子混合气相沉积法制备BN薄膜内应力的影响（后续）