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Development of Self-crack-healing Coating Technique and its Application for Heat Resistant Superalloy
耐热高温合金裂纹自愈涂层技术的开发及其应用
基本信息
- 批准号：23656091
- 负责人：
- 金额：$ 2.58万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
- 财政年份：2011
- 资助国家：日本
- 起止时间：2011 至 2012
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
A SiNx/SiCy nano-laminated film with a self-crack-healing ability under high temperature environment was fabricated. The influence of healing condition and film structure on the healing ability was investigated. In the case of the SiN monolayer film, the crack was poorly healed after heating. On the other hand, in the SiNx/SiCy nano-laminated film, crack healing occurred. The crack healing improved on increasing the heating temperature and time. There is a trade-off between the self-crack-healing ability and the thermal shock resistance in SiNx/SiCy nano-laminated film.
制备了一种在高温环境下具有裂纹自愈合能力的SiNx/SiCy纳米叠层薄膜。研究了愈合条件和膜结构对愈合能力的影响。在SiN单层膜的情况下，裂纹在加热后愈合不良。另一方面，在SiNx/SiCy纳米层压膜中，发生裂纹愈合。随着加热温度的升高和加热时间的延长，裂纹的愈合速度加快。SiNx/SiCy纳米叠层薄膜在裂纹自愈合能力和抗热震性之间存在一个平衡点。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
SiN/SiC積層薄膜の創製とその自己き裂治癒能力
SiN/SiC多层薄膜的制备及其自裂纹愈合能力
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Nakatani;J. Nishimura;S. Hanaki;H. Uchida;西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁;西村淳樹，中谷正憲，花木聡，内田仁
- 通讯作者：西村淳樹，中谷正憲，花木聡，内田仁
SiN/SiC 積層薄膜の創製とその自己き裂治癒能力
SiN/SiC多层薄膜的制备及其自裂纹愈合能力
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Nakatani;J. Nishimura;S. Hanaki;H. Uchida;西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁
- 通讯作者：西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁
Crack Healing Behavior of SiN/SiC Nano-Laminated Films
SiN/SiC纳米层压薄膜的裂纹愈合行为
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Nakatani;J. Nishimura;S. Hanaki;H. Uchida
- 通讯作者：H. Uchida
Synthesis of SiN/SiC multilayered films with crack-healing ability
具有裂纹修复能力的SiN/SiC多层薄膜的合成
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Nakatani;J. Nishimura;S. Hanaki;H. Uchida
- 通讯作者：H. Uchida
高温環境下におけるSiNx/SiCyナノ積層薄膜の自己き裂治癒挙動
SiNx/SiCy纳米层压薄膜高温环境下自裂纹愈合行为
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：中谷匡志;X.W. Lei;土井祐介;中谷彰宏;中谷彰宏;日本機械学会;中谷正憲，西村淳樹，花木聡，内田仁
- 通讯作者：中谷正憲，西村淳樹，花木聡，内田仁
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