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Development of Self-crack-healing Coating Technique and its Application for Heat Resistant Superalloy

Development of Self-crack-healing Coating Technique and its Application for Heat Resistant Superalloy
耐热高温合金裂纹自愈涂层技术的开发及其应用
批准号：
23656091
负责人：
UCHIDA Hitoshi
金额：
$2.58万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2011
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2011 至 2012
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23656091/
关键词：
自己き裂治癒セラミックスコーティング薄膜高温酸化き裂自己治癒積層窒化ケイ素

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A SiNx/SiCy nano-laminated film with a self-crack-healing ability under high temperature environment was fabricated. The influence of healing condition and film structure on the healing ability was investigated. In the case of the SiN monolayer film, the crack was poorly healed after heating. On the other hand, in the SiNx/SiCy nano-laminated film, crack healing occurred. The crack healing improved on increasing the heating temperature and time. There is a trade-off between the self-crack-healing ability and the thermal shock resistance in SiNx/SiCy nano-laminated film.
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会议论文
SiN/SiC積層薄膜の創製とその自己き裂治癒能力
SiN/SiC多层薄膜的制备及其自裂纹愈合能力
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Nakatani, J. Nishimura, S. Hanaki, H. Uchida, 西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁, 西村淳樹，中谷正憲，花木聡，内田仁]
通讯作者： 西村淳樹，中谷正憲，花木聡，内田仁
SiN/SiC 積層薄膜の創製とその自己き裂治癒能力
SiN/SiC多层薄膜的制备及其自裂纹愈合能力
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Nakatani, J. Nishimura, S. Hanaki, H. Uchida, 西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁]
通讯作者： 西村淳樹,中谷正憲,花木聡,内田仁
Crack Healing Behavior of SiN/SiC Nano-Laminated Films
SiN/SiC纳米层压薄膜的裂纹愈合行为
DOI： --
发表时间： 2013
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Nakatani, J. Nishimura, S. Hanaki, H. Uchida]
通讯作者： H. Uchida
Synthesis of SiN/SiC multilayered films with crack-healing ability
具有裂纹修复能力的SiN/SiC多层薄膜的合成
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Nakatani, J. Nishimura, S. Hanaki, H. Uchida]
通讯作者： H. Uchida
共 10 条
    The circadian rhythm in salivary glands
    • 批准号：
      26893297
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
    • 资助金额：
      $1.75万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      UCHIDA Hitoshi
    • 依托单位：
      Tsurumi University
    on-Beam-Assisted Deposition of Hard cBN Films and Internal Stress Relaxation by Laminated layer
    • 批准号：
      20560084
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.91万
    • 财政年份：
      2008
    • 负责人：
      UCHIDA Hitoshi
    • 依托单位：
      University of Hyogo
    Preparation and Molecular Dynamics Evaluation of Super Hard BN Film by Ion-Beam-Assisted Deposition
    • 批准号：
      17560078
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.27万
    • 财政年份：
      2005
    • 负责人：
      UCHIDA Hitoshi
    • 依托单位：
      University of Hyogo
    Synthesis and Reliability Evaluation of Environmental Coating Films by Ion-Beam-Assisted Deposition
    海外基金