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Three dimensional dielectrophoretic devices using high-aspect-ratio structures fabricated by proton beam writing
使用质子束写入制造的高纵横比结构的三维介电泳装置
基本信息
- 批准号：21360154
- 负责人：
- 金额：$ 11.32万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2009
- 资助国家：日本
- 起止时间：2009 至 2011
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
Aiming at the development of dielectrophotic(DEP) devices working for three-dimensional trapping of micro particles, we introduced high-aspect-ratio microstructures fabricated by proton beam writing(PBW). Three issues including beam engineering, materials and processing, and device applications have been studied. Using the PBW technique with flexible micromachining capability, superior characteristics of the three-dimensional DEP devices for electric-micro filters have been successfully demonstrated.
针对用于三维捕获微粒的介电(DEP)器件的发展，我们介绍了用质子束写入(PBW)方法制备的高深宽比微结构。研究了梁工程、材料与加工、器件应用等三个问题。利用具有柔性微加工能力的PBW技术，成功地展示了用于电-微滤光片的三维DEP器件的优越特性。
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Electroplating using high-aspect-ratio microstructures fabricated by proton beam writing
使用质子束写入制造的高深宽比微结构进行电镀
- DOI：
- 发表时间：2009
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Y.Seki;Y.Furuta;H.Nishikawa;T.Watanabe;T.Nakata;T.Satoh;Y.Ishii;T.Kamiya
- 通讯作者：T.Kamiya
Proton Beam Writing micro fabrication system for micro chemical devices
用于微型化学器件的质子束写入微制造系统
- DOI：
- 发表时间：2010
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：P. N. Truong;R. Teshima;T. Hasegawa;H. Nishikawa
- 通讯作者：H. Nishikawa
Proton Beam Writing and Its Applications
质子束书写及其应用
- DOI：
- 发表时间：2009
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：氏本勝也;吉村武;藤村紀文;Hiroyuki Nishikawa
- 通讯作者：Hiroyuki Nishikawa
Optical counting of trapped bacteria in dielectrophoretic microdevice with pillar array
柱阵列介电泳微器件中捕获细菌的光学计数
- DOI：
- 发表时间：2012
- 期刊：
- 影响因子：2
- 作者：S. Uchida;R. Nakao;C. Asai;T. Jin;Y. Shiine;H. Nishikawa
- 通讯作者：H. Nishikawa
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