DevelopmentofHeat-Resistant Hard CarbonFilmsUtilizedFor Tribological Usages
用于摩擦学用途的耐热硬碳薄膜的开发
基本信息
- 批准号:22560147
- 负责人:
- 金额:$ 2.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2012
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
In this study , the silicon- and oxygen- doped, and the silicon- andnitrogen- doped diamond-like carbon (Si-O-DLC and Si-N-DLC) films are chosen to takeinto account the thermal stability and Tribological performance compared with pure DLC.The results indicate that Si-N-DLC films present the better thermal stability due to thepresence of Si-O network in the films. Furthermore, Si-O-DLC and Si-N-DLC films exhibitthe excellent Tribological performance. It can be concluded that Si-O-DLC and Si-N-DLCfilms can improve the thermal stability and Tribological performance.
本研究选择了硅氧共掺杂和硅氮共掺杂的类金刚石碳(Si-O-DLC和Si-N-DLC)薄膜,并与纯类金刚石碳(DLC)薄膜进行了热稳定性和摩擦学性能的比较,结果表明,由于Si-O网络的存在,Si-N-DLC薄膜具有更好的热稳定性。Si-O-DLC和Si-N-DLC薄膜具有优异的摩擦学性能。结果表明,Si-O-DLC和Si-N-DLC膜能提高DLC的热稳定性和摩擦学性能。
项目成果
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专利数量(0)
ESRStudy of Elements Added-DLC Films Depositedby PBII and RF-CVD Methods
PBII和RF-CVD方法沉积添加元素的DLC薄膜的ESR研究
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:N. Moolsradoo;H. Sato and S. Watanabe
- 通讯作者:H. Sato and S. Watanabe
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