Study of line edge roughness (LER) reduction in 15nm scale gate pattern

15nm 规模栅极图案中线边缘粗糙度 (LER) 降低的研究

• 批准号: 23360150
• 负责人: KAWAI Akira
• 金额: $ 12.9万
• 依托单位: Nagaoka University of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011-04-01 至 2014-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23360150/
• 关键词: レジストパターン; 付着力; 原子間力顕微鏡; 半導体集積回路; 高分子集合体; リソグラフィ; ナノバブル; リソグラフィー; ナノ固体; 表面エネルギー; 分子間力; 付着性; 微細加工; ラインエッジラフネス; 集積回路; 感光性樹脂; マニピュレーション; インデンテーション; フォトレジスト; ナノパターン; ゲートパターン

In this study, the condensation control of polymer aggregate in resist micro pattern is carried out in order to clarify the LER(line edge roughness) mechanism by using an atomic force microscope (AFM). The condensation of polymer aggregate affects strongly to the decrease of LER in resist pattern side-wall. From the DPAT (direct peeling by using AFM tip) results of resist pattern adhesion, the polymer aggregate condensation at the pattern bottom is one important control factor. The intrusion experiments indicate similar tendency of resist-substrate interface stability. In this regard, Zeta-potential of polymer aggregate surface should affect to LER control of resist pattern during pattern development. In conclusion, in this study, the important design rules in LER decrease of resist pattern of 15nm size are indicated.

在这项研究中，进行了抗抗衡模式的聚合物聚集体的冷凝控制，以通过使用原子力显微镜（AFM）来阐明LER（线边缘粗糙度）机制。聚合物聚集体的缩合对抗抗模式侧壁的LER的减少强烈影响。从DPAT（使用AFM尖端进行直接剥离）的抗抗模式粘附的结果，模式底部的聚合物聚合物凝结是一个重要的控制因子。侵入实验表明抗基底界面稳定性的类似趋势。在这方面，聚合物聚合物表面的Zeta势力应影响模式发育过程中抵抗模式的控制。总之，在这项研究中，指示了15nm大小的抗抗性模式的重要设计规则。

项目成果

塗膜・レジスト膜の乾燥・付着技術とトラブル対策

漆膜、抗蚀膜的干燥、附着技术及故障排除

• 发表时间: 2011
• 作者: 森田 直也;河合 晃;河合 晃;河合 晃他;河合 晃;河合 晃;河合 晃;河合 晃;河合 晃
• 通讯作者: 河合 晃

ポジ型およびネガ型フォトレジストの溶解度の差を用いたマイクロチューブの作製

利用正负光刻胶溶解度的差异制造微管

• 发表时间: 2013
• 作者: 大塚;高橋;河合
• 通讯作者: 河合

Fabrication and Durability of Single Chip Micro Direct Methanol Fuel Cell (SC-μDMFC) by Photolithography Process

光刻工艺单芯片微型直接甲醇燃料电池（SC-μDMFC）的制造和耐久性

• 发表时间: 2013
• 期刊: J. Photopolymer Science and Technology
• 作者: Yosuke Sakurai;Daisuke Tanaka;Shunsuke Ohata;Akira Kawai
• 通讯作者: Akira Kawai

リソグラフィプロセスを用いた燃料電池用電解質のマイクロパターン形成

使用光刻工艺形成燃料电池电解质的微图案

• 发表时间: 2013
• 作者: 桜井;河合
• 通讯作者: 河合

粒子分散系塗布膜を中心にした高粘度スラリーの調液・塗布・乾燥技術,第5節 各種乾燥プロセスにおける装置選定技術

以颗粒分散涂膜为主的高粘度浆料制备、涂布及干燥技术，第五节各种干燥工艺的设备选型技术

• 发表时间: 2011
• 作者: 発表者;小原豪;河合
• 通讯作者: 河合