Resist pattern development in 25nm size by condensation control in nanometer scale

通过纳米级的凝结控制，形成 25nm 尺寸的抗蚀剂图案

• 批准号: 19360157
• 负责人: KAWAI Akira
• 金额: $ 11.9万
• 依托单位: Nagaoka University of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2007 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19360157/
• 关键词: レジストパターン; 付着力; 原子間力顕微鏡; 半導体集積回路; 高分子集合体; リソグラフィー; ナノバブル; ナノスケールパターン; 空孔

原子間力顕微鏡を用いて、ナノスケールのレジストパターンの凝集構造制御を実験的に試み、理想的な凝集構造の構築を目指した。実験では、レジストパターンへTipを近づけることにより非接触変形させて歪みを測定した。よって、微細レジストパターンを密に配置すると、それだけで変形が生じることを実証にした。また、レジストパターンの吸着水を変化させることで、表面の凝集構造を変化させることに成功した。また、現像および液浸リソグラフィに重要となるナノバブル検出および特性解析が可能となった。以上の成果により、25nmサイズの微小レジストパターンデザインの最適化を行った。

Interatomic force 顕 micromirror を with い て, ナ ノ ス ケ ー ル の レ ジ ス ト パ タ ー ン の aggregation structure suppression を be 験 に try み, ideal な aggregation structure of の build を refers し た. Be 験 で は, レ ジ ス ト パ タ ー ン へ Tip を nearly づ け る こ と に よ り non-contact - shaped さ せ て slanting み を determination し た. よ っ て, imperceptible レ ジ ス ト パ タ ー ン を dense に configuration す る と, そ れ だ け で born - shaped が じ る こ と を card be に し た. ま た, レ ジ ス ト パ タ ー ン の を absorbed water - the さ せ る こ と で を の aggregation structure, surface - the さ せ る こ と に successful し た. Youdaoplaceholder0, phenomenon および liquid immersion リソグラフィに important となるナノバブ 検 検 および characteristics analysis が possible となった. The above <s:1> achievements によ によ, 25nmサ サ ズ ズ <s:1> miniaturization レジストパタ <s:1> <s:1> デザ デザ <s:1> った った った った を った った った を った った.

项目成果

Mask defect transfer in Si anisotropoc wet etching

Si各向异性湿法刻蚀中掩模缺陷转移

• 发表时间: 2009
• 期刊: J. Photopolymer Science and Technology 22(in press)
• 作者: Junji Miyazaki;Akira Kawai
• 通讯作者: Akira Kawai

Native oxide growth on Si (100) surface in liquid environment

液体环境中Si(100)表面的自然氧化物生长

• 发表时间: 2007
• 期刊: J. Photopolymer Science and Technology 20
• 作者: Harumitsu Kubota;Akira Kawai
• 通讯作者: Akira Kawai

Nanoscale lithograph of Si surface with micro tip depending on surface adsorption water

基于表面吸附水的具有微尖端的硅表面纳米级光刻

• 发表时间: 2009
• 作者: Akira Kawai;Fumi Nishizaki;Akihiro Takano
• 通讯作者: Akihiro Takano

Analysis of self-standing structure composedby thick resist layers

厚抗蚀剂层组成的自支撑结构分析

• 发表时间: 2009
• 作者: Akihiro Takano;Akira Kawai
• 通讯作者: Akira Kawai

純水中のイオン電流測定による溶存酸素濃度モニタリング

通过测量纯水中的离子电流监测溶解氧浓度

• 发表时间: 2008
• 作者: 高野覚啓;河合晃
• 通讯作者: 河合晃