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Resist pattern development in 25nm size by condensation control in nanometer scale

Resist pattern development in 25nm size by condensation control in nanometer scale
通过纳米级的凝结控制，形成 25nm 尺寸的抗蚀剂图案
批准号：
19360157
负责人：
KAWAI Akira
金额：
$11.9万
依托单位：
Nagaoka University of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2007 至 2008
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19360157/
关键词：
レジストパターン付着力原子間力顕微鏡半導体集積回路高分子集合体リソグラフィーナノバブルナノスケールパターン空孔

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
原子間力顕微鏡を用いて、ナノスケールのレジストパターンの凝集構造制御を実験的に試み、理想的な凝集構造の構築を目指した。実験では、レジストパターンへTipを近づけることにより非接触変形させて歪みを測定した。よって、微細レジストパターンを密に配置すると、それだけで変形が生じることを実証にした。また、レジストパターンの吸着水を変化させることで、表面の凝集構造を変化させることに成功した。また、現像および液浸リソグラフィに重要となるナノバブル検出および特性解析が可能となった。以上の成果により、25nmサイズの微小レジストパターンデザインの最適化を行った。
英文摘要
原子間力顕微鏡を用いて、ナノスケールのレジストパターンの凝集構造制御を実験的に試み、理想的な凝集構造の構築を目指した。実験では、レジストパターンへTipを近づけることにより非接触変形させて歪みを測定した。よって、微細レジストパターンを密に配置すると、それだけで変形が生じることを実証にした。また、レジストパターンの吸着水を変化させることで、表面の凝集構造を変化させることに成功した。また、現像および液浸リソグラフィに重要となるナノバブル検出および特性解析が可能となった。以上の成果により、25nmサイズの微小レジストパターンデザインの最適化を行った。
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会议论文
Mask defect transfer in Si anisotropoc wet etching
Si各向异性湿法刻蚀中掩模缺陷转移
DOI： --
发表时间： 2009
期刊： J. Photopolymer Science and Technology 22(in press)
影响因子： --
作者： [Junji Miyazaki, Akira Kawai]
通讯作者： Akira Kawai
Native oxide growth on Si (100) surface in liquid environment
液体环境中Si(100)表面的自然氧化物生长
DOI： --
发表时间： 2007
期刊： J. Photopolymer Science and Technology 20
影响因子： --
作者： [Harumitsu Kubota, Akira Kawai]
通讯作者： Akira Kawai
Nanoscale lithograph of Si surface with micro tip depending on surface adsorption water
基于表面吸附水的具有微尖端的硅表面纳米级光刻
DOI： --
发表时间： 2009
期刊：
影响因子： --
作者： [Akira Kawai, Fumi Nishizaki, Akihiro Takano]
通讯作者： Akihiro Takano
Analysis of self-standing structure composedby thick resist layers
厚抗蚀剂层组成的自支撑结构分析
DOI： --
发表时间： 2009
期刊：
影响因子： --
作者： [Akihiro Takano, Akira Kawai]
通讯作者： Akira Kawai
共 62 条
    A Proposal of Parking Guidance to Minimize Parking Time and Walking Time in Large Parking Facility
    • 批准号：
      19K04393
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.75万
    • 财政年份：
      2019
    • 负责人：
      KAWAI Akira
    • 依托单位：
      Shiga University
    Study of line edge roughness (LER) reduction in 15nm scale gate pattern
    • 批准号：
      23360150
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $12.9万
    • 财政年份：
      2011
    • 负责人：
      KAWAI Akira
    • 依托单位：
      Nagaoka University of Technology
    Development of growth control device by interposing pH control system
    • 批准号：
      23656235
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.58万
    • 财政年份：
      2011
    • 负责人：
      KAWAI Akira
    • 依托单位：
      Nagaoka University of Technology
    Search for useful biomarkers in bone and soft tissue tumors using global expression analysis
    海外基金