Development of the fabrication technology of next-generation polycrystalline silicon solar cells using rapid crystallization

利用快速结晶技术开发下一代多晶硅太阳能电池制造技术

• 批准号: 23760692
• 负责人: OHDAIRA Keisuke
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Japan Advanced Institute of Science and Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23760692/
• 关键词: 瞬間熱処理; 多結晶シリコン; 太陽電池; 結晶化; フラッシュランプアニール

This research is regarding the formation of polycrystalline silicon films by flash lamp annealing (FLA), millisecond discharge from Xe lamps, of precursor amorphous silicon films formed on glass substrates for solar cell application. We aimed the establishment of a technology to suppress Si film peeling during FLA without using Cr adhesion layers, which is unfavorable for the realization of high-efficiency solar cells.We have found that the use of glass substrates coated with textured transparent conductive oxide films results in the formation of poly-Si films without Si film peeling. This also demonstrates the possibility of realizing superstrate-type solar cells by using flash-lamp-crystallized polycrystalline silicon films.

本研究是关于形成多晶硅薄膜的闪光灯退火（弗拉），毫秒放电从白炽灯，前体非晶硅薄膜形成在玻璃基板上的太阳能电池的应用。我们的目标是建立一种技术，以抑制在弗拉过程中的Si膜剥离，而不使用Cr粘附层，这是不利于实现高效率的太阳能电池。我们已经发现，使用的玻璃基板上涂有纹理的透明导电氧化物膜的结果，在没有Si膜剥离的多晶硅膜的形成。 这也证明了通过使用闪光灯结晶的多晶硅膜实现叠层型太阳能电池的可能性。

项目成果

FLAによるテクスチャ透明導電膜上のpoly-Si薄膜形成

使用 FLA 在纹理透明导电膜上形成多晶硅薄膜

• 发表时间: 2014
• 作者: 渡邊大貴;大平圭介
• 通讯作者: 大平圭介

Flash Lamp Annealing as a Method of Crystallizing Amorphous Silicon Films to form Thick Polycrystalline Silicon Films

闪光灯退火作为结晶非晶硅膜以形成厚多晶硅膜的方法

• 发表时间: 2013
• 作者: Linsheng Liu;Kota Sasaki;Noritaka Yusa;Hidetoshi Hashizume;Keisuke Ohdaira;Keisuke Ohdaira
• 通讯作者: Keisuke Ohdaira

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A Method to Evaluate Explosive Crystallization Velocity of Amorphous Silicon Films during Flash Lamp Annealing

闪光灯退火过程中非晶硅薄膜爆炸结晶速度的评估方法

• 发表时间: 2014
• 期刊: Can. J. Phys.
• 作者: 久保山大空;白仁田沙代子;梅田実;K. Ohdaira
• 通讯作者: K. Ohdaira

Formation of Polycrystalline Silicon Films with Various Microstructures by Flash Lamp Annealing of Micrometer-Order-Thick Amorphous Silicon Films

微米级非晶硅薄膜闪光灯退火形成各种微结构的多晶硅薄膜

• 发表时间: 2013
• 作者: Linsheng Liu;Kota Sasaki;Noritaka Yusa;Hidetoshi Hashizume;Keisuke Ohdaira
• 通讯作者: Keisuke Ohdaira