Control of electronic structure by anisotropic strain in semiconducting silicide

半导体硅化物中各向异性应变控制电子结构

基本信息

  • 批准号:
    26289093
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.4万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Sbドーピングによるβ-FeSi2エピタキシャル膜の電子密度制御
Sb掺杂对β-FeSi2外延薄膜电子密度的控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Kawazu;T. Noda;T. Mano;Y. Sakuma;and H. Sakaki;飯沼元輝,江口 元,村社尚紀,星田裕文,寺井慶和
  • 通讯作者:
    飯沼元輝,江口 元,村社尚紀,星田裕文,寺井慶和
偏光ラマンスペクトル測定によるBaSi2の分子振動モード解析 (II)
使用偏振拉曼光谱分析 BaSi2 的分子振动模式(II)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    澤田健士;安達定雄;村社尚紀,飯沼元輝,末益 崇,寺井慶和
  • 通讯作者:
    村社尚紀,飯沼元輝,末益 崇,寺井慶和
β-FeSi2エピタキシャル膜におけるラマンスペクトルの熱処理温度依存性
β-FeSi2 外延薄膜拉曼光谱的热处理温度依赖性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Tateyama;Y. Nagatomi;S. Tanaka;K. Yamamoto;D. Wang;H. Nakashima;山﨑一輝,山口陽己,寺井慶和
  • 通讯作者:
    山﨑一輝,山口陽己,寺井慶和
スパッタリング法によるβ-FeSi2薄膜の作製と電気特性評価
溅射法制备β-FeSi2薄膜及电性能评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Shimizu;B. Han;Y. Tu;K. Inoue;and Y. Nagai;東 貴彦,服部 哲,寺井慶和
  • 通讯作者:
    東 貴彦,服部 哲,寺井慶和
シリサイド系半導体の科学と技術
硅化物半导体科学与技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    前田佳均編著;秋山賢輔;他
  • 通讯作者:
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Creation of new optical function by a control of band orbital hybridization in semiconducting silicides
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  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 10.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    $ 10.4万
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    $ 10.4万
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    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)

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    $ 10.4万
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    2003
  • 资助金额:
    $ 10.4万
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  • 批准号:
    14655236
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    2002
  • 资助金额:
    $ 10.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
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    13750298
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 10.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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  • 批准号:
    12750011
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 10.4万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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