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Development of high rate glancing angle deposition techniques with oxygen radical source for the fabrication of titanium oxide films with excellent photo-catalytic properties

Development of high rate glancing angle deposition techniques with oxygen radical source for the fabrication of titanium oxide films with excellent photo-catalytic properties
开发氧自由基源高速掠射角沉积技术，用于制备具有优异光催化性能的氧化钛薄膜
批准号：
15K04682
负责人：
HOSHI Yoichi
金额：
$3.16万
依托单位：
Tokyo Polytechnic University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2015
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2015-04-01 至 2019-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-15K04682/
关键词：
斜め入射堆積酸素ラジカル源酸素イオン高速スパッタ光触媒材料ポーラス膜酸化チタン膜酸化タングステン膜スパッタ電圧低ダメージスパッタ法酸化タングステン酸化処理斜め入射堆積法高速スパッタ堆積光触媒ガスクロミック特性酸素負イオン酸化チタン低ダメージスパッタ

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先端有機半導体デバイス　基礎からデバイス物性まで
先进有机半导体器件：从基础知识到器件特性
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [Li-Jiun Chen, Shunich Tsunajima, Matsuhiko Nishizawa, Nobuhiro Nagai, Toshiaki Abe, Hirokazu Kaji, 三成剛生]
通讯作者： 三成剛生
低ダメージスパッタ堆積プロセスを利用した有機EL素子用電極膜の作製
采用低损伤溅射沉积工艺制造有机EL器件电极膜
DOI： --
发表时间： 2015
期刊： 電子情報通信学会　信学技報, CPM2015-87
影响因子： --
作者： [２）Meihan Wang, Hao Lei, Jiaxing Wen, Haibo Long, Yutaka Sawada, Yoichi Hoshi, Takayuki Uchida, Zhaoxia Hou, 星　陽一　濱口大地　小林信一　内田孝幸　澤田　豊　清水英彦]
通讯作者： 星　陽一　濱口大地　小林信一　内田孝幸　澤田　豊　清水英彦
Improvement of gaschromic properties of WO3 films by high rate reactive sputter-deposition on an inclined substrate
倾斜基底上高速反应溅射沉积提高 WO3 薄膜气致变色性能
DOI： --
发表时间： 2017
期刊：
影响因子： --
作者： [Yoji Yasuda, Yoichi Hoshi(1), Shin-ichi Kobayashi, Takayuki Uchida, Yutaka Sawada, Meihan Wang, and Hao Lei]
通讯作者： and Hao Lei
有機EL素子の上部電極作製用スパッタ成膜プロセスの開発
开发用于制造有机EL器件上电极的溅射沉积工艺
DOI： --
发表时间： 2017
期刊：
影响因子： --
作者： [安田洋司，星陽一，小林信一, 内田孝幸]
通讯作者： 内田孝幸
共 30 条
    Development of high rate and low temperature sputter-deposition method for the fabrication of oxide films on organic substrate
    • 批准号：
      20560309
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.16万
    • 财政年份：
      2008
    • 负责人：
      HOSHI Yoichi
    • 依托单位：
      Tokyo Polytechnic University
    Development of high rate sputtering system for the deposition of transparent conductive thin films with low resistivity and high adhesion on plastic film substrate.
    • 批准号：
      16560281
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.37万
    • 财政年份：
      2004
    • 负责人：
      HOSHI Yoichi
    • 依托单位：
      Tokyo Polytechnic University
    Development of soft magnetic thin films with large saturation magnetization for magnetic recording head by sputter-deposition at liquid nitrogen temperature
    • 批准号：
      13650357
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $0.64万
    • 财政年份：
      2001
    • 负责人：
      HOSHI Yoichi
    • 依托单位：
      Tokyo Polytechnic University
    Development of sputter deposition method to control microstructure of thin film magnetic recording media with ultra high density.
    • 批准号：
      10650320
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.24万
    • 财政年份：
      1998
    • 负责人：
      HOSHI Yoichi
    • 依托单位：
      Tokyo Institute of Polytechnics