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A proposal for electrode formation at low annealing temperatures via the application of femtosecond-laser-induced modifications on silicon carbide

A proposal for electrode formation at low annealing temperatures via the application of femtosecond-laser-induced modifications on silicon carbide
通过在碳化硅上应用飞秒激光诱导改性在低退火温度下形成电极的建议
批准号:
15K06466
负责人:
OKADA Tatsuya
金额:
$3.24万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-01 至 2018-03-31

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フェムト秒レーザ照射誘起改質を応用したNi/SiC界面における低温拡散
使用飞秒激光辐照诱导改性在 Ni/SiC 界面进行低温扩散
DOI: --
发表时间: 2018
期刊:
影响因子: --
作者: [Tatsuya Okada, Takuro Tomita, Tomoyuki Ueki, Yuki Masai, Yota Bando, Yasuhiro Tanaka, 渕上裕暉,橋本拓哉,川上博貴,植木智之,富田卓朗,岡田達也,田中康弘]
通讯作者: 渕上裕暉,橋本拓哉,川上博貴,植木智之,富田卓朗,岡田達也,田中康弘
DOI: 10.7567/jjap.56.026601
发表时间: 2017-01
期刊: Japanese Journal of Applied Physics
影响因子: 1.5
作者: [T. Okada;T. Tomita;Tomoyuki Ueki;Y. Masai;Y. Bando;Yasuhiro Tanaka]
通讯作者: T. Okada;T. Tomita;Tomoyuki Ueki;Y. Masai;Y. Bando;Yasuhiro Tanaka
DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [Tatsuya Okada, Takuro Tomita, Tomoyuki Ueki, Yuki Masai, Yota Bando, Yasuhiro Tanaka, 渕上裕暉,橋本拓哉,川上博貴,植木智之,富田卓朗,岡田達也,田中康弘, 二村大,川上博貴,植木智之,富田卓朗,岡田達也,田中康弘, 政井 勇輝,植木 智之,田中 康弘,富田 卓朗,岡田 達也]
通讯作者: 政井 勇輝,植木 智之,田中 康弘,富田 卓朗,岡田 達也
DOI: 10.7567/jjap.56.112701
发表时间: 2017
期刊: Japanese Journal of Applied Physics
影响因子: 1.5
作者: [Tatsuya Okada, Takuro Tomita, Tomoyuki Ueki, Yuki Masai, Yota Bando, and Yasuhiro Tanaka]
通讯作者: and Yasuhiro Tanaka
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    Facilitation of ion implantation through femtosecond-laser-induced modifications on diamond surface
    • 批准号:
      19K05033
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.75万
    • 财政年份:
      2019
    • 负责人:
      OKADA Tatsuya
    • 依托单位:
    New understanding of deformation and recrystallization based on single-crystal stress measurement
    • 批准号:
      23560088
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.66万
    • 财政年份:
      2011
    • 负责人:
      OKADA Tatsuya
    • 依托单位:
    Source of surface defects in silicon carbide epitaxial files and their elimination method
    • 批准号:
      16560009
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.66万
    • 财政年份:
      2004
    • 负责人:
      OKADA Tatsuya
    • 依托单位:
    Study on Multifractal and its Applications to the Digital Sum Problems
    • 批准号:
      12640135
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $0.45万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      OKADA Tatsuya
    • 依托单位:
    海外基金