Crystallization of Silicon Thin Films by Microwave Rapid Heating
Crystallization of Silicon Thin Films by Microwave Rapid Heating
微波快速加热硅薄膜结晶
批准号：
16K06255
负责人：
Hasumi Masahiko
金额：
$3.08万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
Proc. in PhotoVoltaic Technical Conference
影响因子：
--
作者：
[S. Kimura, K. Ota, M. Hasumi, A. Suzuki, M. Ushijima, and T. Sameshima]
通讯作者：
and T. Sameshima
DOI：
10.1007/s00339-016-0220-7
发表时间：
2016-06
期刊：
Applied Physics A
影响因子：
--
作者：
[S. Kimura;Kosuke Ota;M. Hasumi;Ayuta Suzuki;M. Ushijima;T. Sameshima]
通讯作者：
S. Kimura;Kosuke Ota;M. Hasumi;Ayuta Suzuki;M. Ushijima;T. Sameshima
Heating equipment with carbon heating used to activate silicon and fabricate its solar cells
用于激活硅并制造太阳能电池的碳加热加热设备
用于激活硅并制造太阳能电池的碳加热加热设备
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Toshitaka Kikuchi, Takashi Sugawara, Takuma Uehara, Tomoyoshi Miyazaki, Go Kobayashi, Masahiko Hasumi, Toshiyuki Sameshima]
通讯作者：
Toshiyuki Sameshima
Heat treatment in liquid water at 80oC used to improve the interface characteristic of metal-oxide-semiconductor capacitor
80℃液态水中热处理改善金属氧化物半导体电容器界面特性
80℃液态水中热处理改善金属氧化物半导体电容器界面特性
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yoshito Hirokawa, Masahiko Hasumi, Toshiyuki Sameshima, Tomohisa Mizuno]
通讯作者：
Tomohisa Mizuno
PN接合におけるバイアス電圧印加による光誘起少数キャリアライフタイムの挙動
PN 结偏压施加的光致少数载流子寿命行为
PN 结偏压施加的光致少数载流子寿命行为
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[太田康介, 鮫島俊之, 蓮見真彦, 水野智久]
通讯作者：
水野智久
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