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Crystallization of Silicon Thin Films by Microwave Rapid Heating
微波快速加热硅薄膜结晶
基本信息
- 批准号：16K06255
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Crystallization of Silicon Thin Films By Microwave-Induced Rapid Heating
微波诱导快速加热硅薄膜的结晶
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Kimura;K. Ota;M. Hasumi;A. Suzuki;M. Ushijima;and T. Sameshima
- 通讯作者：and T. Sameshima
Crystallization and activation of silicon by microwave rapid annealing
- DOI：10.1007/s00339-016-0220-7
- 发表时间：2016-06
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Kimura;Kosuke Ota;M. Hasumi;Ayuta Suzuki;M. Ushijima;T. Sameshima
- 通讯作者：S. Kimura;Kosuke Ota;M. Hasumi;Ayuta Suzuki;M. Ushijima;T. Sameshima
Heating equipment with carbon heating used to activate silicon and fabricate its solar cells
用于激活硅并制造太阳能电池的碳加热加热设备
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Toshitaka Kikuchi;Takashi Sugawara;Takuma Uehara;Tomoyoshi Miyazaki;Go Kobayashi;Masahiko Hasumi;Toshiyuki Sameshima
- 通讯作者：Toshiyuki Sameshima
Heat treatment in liquid water at 80oC used to improve the interface characteristic of metal-oxide-semiconductor capacitor
80℃液态水中热处理改善金属氧化物半导体电容器界面特性
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yoshito Hirokawa;Masahiko Hasumi;Toshiyuki Sameshima;Tomohisa Mizuno
- 通讯作者：Tomohisa Mizuno
PN接合におけるバイアス電圧印加による光誘起少数キャリアライフタイムの挙動
PN 结偏压施加的光致少数载流子寿命行为
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：太田康介;鮫島俊之;蓮見真彦;水野智久
- 通讯作者：水野智久
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