Correlation between deep-level defects and turn-on switching characteristics in AlGaN/GaN hetero-structures grown on Si substrates
Correlation between deep-level defects and turn-on switching characteristics in AlGaN/GaN hetero-structures grown on Si substrates
批准号:
16K06276
负责人:
NAKANO Yoshitaka
金额:
$3.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31
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Electrical Damage Introduced into n -GaN Films by CF4 Plasma Treatments
CF4 等离子体处理对 n-GaN 薄膜造成的电损伤
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[廣瀬 将人, 田橋 正浩, 高橋 誠, 吉野 賢二, 後藤 英雄, Yoshitaka Nakano]
通讯作者:
Yoshitaka Nakano
3C-SiC/Si基板上に作製したAlGaN/GaN/GaN:Cヘテロ構造のターンオン容量回復特性
3C-SiC/Si 衬底上 AlGaN/GaN/GaN:C 异质结构的导通电容恢复特性
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[中野 由崇, 北原 功一, 大内 澄人, 生川 満久, 川村 啓介]
通讯作者:
川村 啓介
HVPE法で結晶成長したb-Ga2O3ホモエピ膜の電気的評価
HVPE法生长的b-Ga2O3同质外延薄膜的电学评价
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[倉井聡, 大川康平,槇尾凌我, 高俊吉, 野畑元喜, 岡田成仁, 只友一行, 山田陽一, 中野由崇]
通讯作者:
中野由崇
ガスソースMBE法により作製した3C-SiC(111)自立基板の電気的評価
气源MBE法制备3C-SiC(111)自支撑衬底的电学评估
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[中野由崇, 浅村英俊, 大内澄人, 生川満久, 稲垣徹, 川村啓介]
通讯作者:
川村啓介
Generation Behavior of Electrical Damage Introduced into n-GaN Films by CF4 Plasma Treatments
CF4 等离子体处理对 n-GaN 薄膜电损伤的产生行为
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Yoshitaka Nakano, Retsuo Kawakami and Masahito Niibe]
通讯作者:
Retsuo Kawakami and Masahito Niibe
共 22 条
Correlation between deep-level defects and turn-on switching characteristics in AlGaN/GaN hetero-structures
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批准号:25420300
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.33万
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财政年份:2013
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负责人:NAKANO Yoshitaka
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依托单位:
Band-gap states and quality analyses of AlGaN/GaN hetero-structures
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批准号:22560309
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.83万
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财政年份:2010
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负责人:NAKANO Yoshitaka
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依托单位:
海外基金