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Investigation of growth mechanism of single-crystalline thin film on single-crystalline substrate with different crystal orientation

Investigation of growth mechanism of single-crystalline thin film on single-crystalline substrate with different crystal orientation
不同晶向单晶衬底上单晶薄膜的生长机理研究
批准号:
16H04545
负责人:
Doi Toshiya
金额:
$11.15万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2021-03-31

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DOI: 10.7567/jjap.56.103101
发表时间: 2017-09
期刊: Japanese Journal of Applied Physics
影响因子: 1.5
作者: [A. Ichinose;S. Horii;T. Doi]
通讯作者: A. Ichinose;S. Horii;T. Doi
電磁鋼板を基材とした酸化物中間層成膜プロセスの改善及びYBCO薄膜の作製
氧化物中间层沉积工艺改进及以电工钢板为基材制备YBCO薄膜
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [田所 朋, 樋口 甲太郎, 堀井 滋, 土井 俊哉, 一瀬 中]
通讯作者: 一瀬 中
配向Cuテープを基材に用いたYBCO線材の導電性中間層の 抵抗率評価
以取向铜带为基材的YBCO线导电中间层电阻率评估
DOI: --
发表时间: 2020
期刊:
影响因子: --
作者: [土井俊哉,川山巌,濱田剛, 井上靖也,一瀬中]
通讯作者: 井上靖也,一瀬中
導電性中間層を用いたYBCO線材のクエンチ発生時における電流回避挙動の解析
使用导电中间层的 YBCO 线发生失超时的电流避免行为分析
DOI: --
发表时间: 2020
期刊:
影响因子: --
作者: [村本 周平, 井上 靖也, 太田 圭佑, 川山 巌, 土井 俊哉]
通讯作者: 土井 俊哉
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