Upgrading sputtering film deposition by controlling of powder target
Upgrading sputtering film deposition by controlling of powder target
通过控制粉末靶材升级溅射薄膜沉积
批准号：
17K05102
负责人：
Ohshima Tamiko
金额：
$3.08万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2017
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2017-04-01 至 2020-03-31
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Preparation of barium cerium oxide thin films for electrolyte of the single chamber solid oxide fuel cell by pulsed laser deposition
脉冲激光沉积制备单室固体氧化物燃料电池电解质氧化钡铈薄膜
脉冲激光沉积制备单室固体氧化物燃料电池电解质氧化钡铈薄膜
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Tamiko Ohshima, Yoshihiro Nojiri, Masaki Iwaya, Hiroharu Kawasaki, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Masanori Shinohara, Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Yoshiaki Suda
Sn doped SiO2 thin film preparation by powder targets plasma process
粉末靶材等离子体工艺制备Sn掺杂SiO2薄膜
粉末靶材等离子体工艺制备Sn掺杂SiO2薄膜
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hiroharu Kawasaki, Tamiko Ohshima, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Masanori Shinohara]
通讯作者：
Masanori Shinohara
Trial of Thin film preparation for preventing hydrogen embrittlement using sputtering deposition method using powder target
粉末靶溅射沉积法制备防止氢脆薄膜的试验
粉末靶溅射沉积法制备防止氢脆薄膜的试验
DOI：
--
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Hiroharu Kawasaki, Hiroshi Nishiguchi, Tamiko Ohshima, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Yoshiaki Suda]
通讯作者：
Yoshiaki Suda
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[山城梨沙, 三沢達也, 作道章一, 川崎仁晴]
通讯作者：
川崎仁晴
Preparation of several kinds of elements mixed thin films by plasma process using powder targets III
粉末靶材等离子体工艺制备多种元素混合薄膜Ⅲ
粉末靶材等离子体工艺制备多种元素混合薄膜Ⅲ
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[山城梨沙, 三沢達也, 作道章一, 川崎仁晴, 山城梨沙，三沢達也，作道章一, 豊川 洋一，柳生 義人，作道 章一, 川崎仁晴]
通讯作者：
川崎仁晴
共 47 条
Improvement For Powder Sputtering Process Applicable For New Material Development
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批准号：20K03921
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.75万
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财政年份：2020
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负责人：Ohshima Tamiko
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依托单位：
海外基金