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Improvement For Powder Sputtering Process Applicable For New Material Development

Improvement For Powder Sputtering Process Applicable For New Material Development
粉末溅射工艺的改进适用于新材料开发
批准号：
20K03921
负责人：
Ohshima Tamiko
金额：
$2.75万
依托单位：
Sasebo National College of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2020-04-01 至 2023-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20K03921/
关键词：
粉体ターゲットスパッタリング混合粉体透明導電膜AZO透明導電薄膜粉体スパッタリング電子アブレーション

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DOI： --
发表时间： 2023
期刊：
影响因子： --
作者： [Tamiko Ohshima, Hiroharu Kawasaki, Yusuke Hibino, Takahiko Satake, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani]
通讯作者： Masaharu Shiratani
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DOI： --
发表时间： 2023
期刊：
影响因子： --
作者： [Tamiko Ohshima, Yusuke Hibino, Takeshi Ihara, Yoshihito Yagyu, Takahiko Satake, Hiroharu Kawasaki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani]
通讯作者： Masaharu Shiratani
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DOI： --
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影响因子： --
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DOI： 10.1109/tps.2020.3025306
发表时间： 2020
期刊： IEEE Transactions on Plasma Science
影响因子： 1.5
作者： [Hiroharu Kawasaki, Tamiko Ohshima, Yoshihito Yagyu, Takeshi Ihara, Yoshiaki Suda]
通讯作者： Yoshiaki Suda
共 38 条
    Upgrading sputtering film deposition by controlling of powder target
    • 批准号：
      17K05102
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.08万
    • 财政年份：
      2017
    • 负责人：
      Ohshima Tamiko
    • 依托单位：
      Sasebo National College of Technology
    海外基金