Development of Simulator for High Efficient Chemical Mechanical Polishing of Hard-to-Process Materials by Computational Method
Development of Simulator for High Efficient Chemical Mechanical Polishing of Hard-to-Process Materials by Computational Method
批准号:
17K06110
负责人:
Ozawa Nobuki
金额:
$2.66万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2017
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2017-04-01 至 2020-03-31
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Effects of Nanobubble Collapse on Precision Polishing : Molecular Dynamics Study
纳米气泡塌陷对精密抛光的影响:分子动力学研究
DOI:
--
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Yoshimasa Aoyama, Jingxiang Xu, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo]
通讯作者:
Momoji Kubo
反応力場分子動力学シミュレーションによる窒化物半導体基板のナノバブルを用いた化学機械研磨プロセスの検討
利用反作用力场分子动力学模拟研究氮化物半导体衬底纳米气泡化学机械抛光工艺
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[三原大空, 野口賢至, 河原成元, 松岡 健之・尾崎 典雅・奥地 拓生・瀬戸 雄介・宮西 宏併・高橋 謙次郎・羽原 英明・犬伏 雄一・籔内 俊毅・富樫 格・館野 繁彦・平尾 直久・大石 泰生・FAENOV Anatoly・PIKUZ Tatiana・兒玉 了祐・田中 和夫・矢橋 牧名・石川 哲也, Tomokazu Iyoda, 建石寿枝, 木村颯太]
通讯作者:
木村颯太
Effects of Shockwave-Induced Nanobubble Collapse on Precision Polishing : Molecular Dynamics Study
冲击波引起的纳米气泡塌陷对精密抛光的影响:分子动力学研究
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Hirosawa, K. Fujii, T. Ueki, Y.Kitazawa, M. Watanabe, E. P. Gilbert, and M. Shibayama, 彌田智一, Yoshimasa Aoyama]
通讯作者:
Yoshimasa Aoyama
ナノバブルが半導体基板の精密研磨に与える影響:ナノバブル圧壊プロセスの分子動力学シミュレーション
纳米气泡对半导体基板精密抛光的影响:纳米气泡塌陷过程的分子动力学模拟
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Yoshimasa Aoyama, Jingxiang Xu, Yusuke Ootani, Nobuki Ozawa, Momoji Kubo, 青山義昌,許競翔,大谷優介,尾澤伸樹,久保百司]
通讯作者:
青山義昌,許競翔,大谷優介,尾澤伸樹,久保百司
Molecular Dynamics Investigation for Chemical Effects of Nanobubble Collapse on Precision Polishing
纳米气泡破裂对精密抛光化学效应的分子动力学研究
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[上村 洋平, 荒井 俊人, 堤 潤也, 松岡 悟志,山田 浩之, 堀内 佐智雄, 長谷川 達生, Yoshimasa Aoyama]
通讯作者:
Yoshimasa Aoyama
共 6 条
Development of Simulator for Super-Precision Machining by Nano-Bubbles based on Computational Method
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批准号:20K05147
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2020
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负责人:Ozawa Nobuki
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依托单位:
海外基金