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Study of photoinduced deformation in amorphous carbon nitride
非晶氮化碳光致变形研究
基本信息
- 批准号：18H01715
- 负责人：
- 金额：$ 8.74万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
光誘起変形能を有するアモルファス炭素系薄膜のSXESスペクトル解析
光致变形非晶碳基薄膜的SXES光谱分析
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：下野眞裕;佐藤庸平;寺内正己;青野祐美
- 通讯作者：青野祐美
光誘起変形能を有するアモルファス窒化炭素薄膜のNEXAFSスペクトル解析
具有光致变形能力的非晶氮化碳薄膜的 NEXAFS 光谱分析
- DOI：
- 发表时间：2022
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：下野眞裕;青野祐美;神田一浩
- 通讯作者：神田一浩
アモルファス炭素薄膜の光誘起変形に及ぼす窒素添加効果
氮添加对非晶碳薄膜光致变形的影响
- DOI：
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：下野眞裕;佐藤庸平;寺内正己;青野祐美;青野祐美
- 通讯作者：青野祐美
Visible light irradiation effects on chemical bonding structure of amorphous carbon nitride thin films using synchrotron radiation infrared rays
- DOI：10.1016/j.jnoncrysol.2021.120963
- 发表时间：2021-06-10
- 期刊：
- 影响因子：3.5
- 作者：Aono，Masami;Kishimura，Hiroaki
- 通讯作者：Kishimura，Hiroaki
スパッタ法で作製したアモルファス炭素薄膜およびアモルファス窒化炭素薄膜の熱膨張係数評価
溅射法制备的非晶碳薄膜和非晶氮化碳薄膜的热膨胀系数评价
- DOI：
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：青野祐美;宮﨑尚;春日貴章;能木雅也
- 通讯作者：能木雅也
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Aono Masami其他文献
Carbon fibers having a nano-arched structure on Co-supersaturated Cu foils
钴过饱和铜箔上具有纳米拱形结构的碳纤维
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- 作者：
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Tsai An-Pang
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Photo-induced volume change of amorphous carbon nitride thin films
非晶氮化碳薄膜的光致体积变化
- 批准号：
26790054 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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凝聚态气体等离子体激发法超低温合成非晶碳薄膜的研究
- 批准号：
26390095 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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氢化非晶碳的薄膜生长和极性控制
- 批准号：
25289083 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Ultra-large-scale electronic state calculations based on ab initio theory and mathematical optimization methods
基于从头理论和数学优化方法的超大规模电子态计算
- 批准号：
23540370 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on the formation of carbon thin films obtained by electron-beam-induced-chemical vapor deposition combined with ultra low-temperature tunneling reaction of H atoms at ultra low temperature
超低温电子束诱导化学气相沉积结合H原子超低温隧道反应制备碳薄膜的研究
- 批准号：
21560031 - 财政年份：2009
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Theoretical study on the pressure-induced structural change at high temperatures and high pressures
高温高压下压力引起的结构变化的理论研究
- 批准号：
19540404 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study of Metal/Semiconductor Interfaces
金属/半导体界面研究
- 批准号：
11450021 - 财政年份：1999
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B).
画像処理を用いたプラズマ診断法によるアモルファス・カーボン薄膜生成法の評価と改良
使用图像处理等离子诊断方法评估和改进非晶碳薄膜生产方法
- 批准号：
05650288 - 财政年份：1993
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
画像処理を用いたプラズマ診断法によるアモルファス・カーボン薄膜生成法の評価と改良
使用图像处理等离子诊断方法评估和改进非晶碳薄膜生产方法
- 批准号：
04650228 - 财政年份：1992
- 资助金额：
$ 8.74万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)