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Mask Aligner

掩模对准器

基本信息

批准号：
56624344
负责人：
金额：
--
依托单位：
Technische Universität Braunschweig
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2007
资助国家：
德国
起止时间：
2006-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/56624344?language=en
关键词：
Mask Aligner

项目摘要

Die Fotolithografie ist eine Kerntechnologie in der Mikrosystemtechnik und kommt in nahezu jedem mikrotechnischen Fertigungsablauf zum Einsatz. Der Mask Aligner ermöglicht dabei die präzise Justierung von Maske und Substrat und anschließend die hochgenaue Übertragung der Mikrostrukturen und ist somit ein zentrales und unverzichtbares Gerät für die Fotolithografie. Es gibt keine andere Möglichkeit bzw. kein anderes Gerät, das diese hohen Anforderungen erfüllt, ohne die es aber nicht möglich ist, Komponenten für Mikrosensoren, –aktoren und –systeme zu fertigen Am Institut für Mikrotechnik wird der Mask Aligner für jedes Forschungsprojekt benötigt. Das Gerät, das das Institut seit 1996 besitzt, weist inzwischen deutliche und maßgebliche Mängel auf. Eine vor kurzem vom Hersteller durchgeführte Wartung hat ergeben, dass diese Mängel nicht mehr zu beheben sind. Es ist damit zu rechnen, dass das Gerät kurzfristig ganz ausfällt, was die Einstellung der gesamten mikrotechnischen Fertigung und damit eine langfristige Unterbrechung nahezu aller Forschungsarbeiten zur Folge haben würde. Es ist daher zwingend notwendig, rechtzeitig ein Ersatzgerät zu beschaffen. Das beantragte Ersatzgerät entspricht hinsichtlich seiner grundsätzlichen Leistungsmerkmale dem des vorhandenen Geräts. Bezüglich der Belichtungseinheit und der Hard- und Softwareausstattung ist es dem aktuellen Stand der Technik angepasst.

模具光刻技术：微系统技术中的核心技术和nahezu的评论。Der Mask alignment ermöglicht dabei die präzise假面矫正器与基板矫正器与衬底矫正器Übertragung Der micro - strukturen und ist somit ein zentrales und unverzichtbares Gerät fr die Fotolithografie。请点击keine andere Möglichkeit bzw。kein anderes Gerät, das diese hohen Anforderungen erfllt, ohne die erfight möglich ist, Komponenten fbr br Mikrosensoren， -aktoren und -systeme zu fertigen institute fbr Mikrotechnik wnd Mask对准器fbr jedes Forschungsprojekt benötigt。Das Gerät, Das institute seit 1996 besitzt, weist inzwischen deutliche and maßgebliche Mängel auf。从Hersteller durchgefhhrt上看，ergeben, dass diese Mängel night mehr zu beheben sind。他的第一个damit zu rehnen， das Gerät kurzfristig ganz ausfällt，是die instellung der gesamamten microtechnischen Fertigung and damitine langfristige Unterbrechung nahesu aller forschungsariten zur Folge habenwrde。他的父亲zwingend not enddig， rechtzeitig ein Ersatzgerät zu beschaffen。Das beantragte Ersatzgerät entspricht hinsichtlich seiner grundsätzlichen Leistungsmerkmale dem des vorhandenen Geräts。Bezuglich der Belichtungseinheit和der困难——Softwareausstattung是es民主党aktuellen站der Technik angepasst。