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ドナーで安定化されたシリル(シリレン)錯体の合成,構造および反応性の研究

供体稳定的硅基（亚硅基）配合物的合成、结构和反应性研究

基本信息

批准号：
08740510
负责人：
上野圭司
金额：
$ 0.64万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份：
1996
资助国家：
日本
起止时间：
1996 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

1.ジシラニル鉄錯体Cp^1Fe (CO)_2SiMe_2SiMe_3(Cp^1=η-C_5H_5, η-C_5Me_5)をHMPAなどの塩基存在下で光照射したところ,塩基がシリレン配位子に配位して安定化されたシリル(シリレン)鉄錯体がほぼ定量的に得られることを見いだした。またこの反応をルテニウム錯体にも応用し,シリル(シリレン)ルテニウム錯体を得ることにも成功した。2.得られたシリル(シリレン)錯体の温度可変NMRを測定したところ,メチル基がシリル基からシリレン配位子へNMRタイムスケールで分子内1, 3転位していることが明らかになった。これはシリル(シリレン)錯体でアルキル基のスクランブリングが起こっていることを直接観測することに成功した初めての例である。またシリレン配位子に配位している塩基と遊離の塩基とが交換していることも明らかになった。3.シリル(シリレン)錯体とメタノールとを反応させると,メトキシシリル(シリル)(ヒドリド)錯体が生成した。またシリル(シリレン)錯体にメチルリチウムを反応させると,陰イオン性のビス(シリル)錯体が生成した。これらの事実からシリレン配位子が電子不足になっていることが明らかになった。4.シリレン配位子に対する塩基の配位力を比較した結果,強い方からジメチルアミノピリジン,N-メチルイミダゾール,HMPA, N, N'-ジメチルイミダゾリジノンの順番になった。5.これらの成果を踏まえて,アルキル基の1, 3転位はR_nE-M=E^1R^1_m(E, E'=典型元素,M=金属)型構造を持つ化合物一般に見られるのではないかという考えを提案した。

1. In the presence of HMPA, Cp^1Fe (CO)_2SiMe_2SiMe_3(Cp^1=η-C_5H_5, η-C_5Me_5) is a complex of iron complexes. This is the first time I've ever seen a woman's face. 2. The temperature of the complex can be determined by NMR. The temperature of the complex can be determined by NMR. The temperature of the complex can be determined by NMR. The temperature of the complex can be determined by NMR. This is the first example of a successful test. The ligand is coordinated to the free radical, and the free radical is exchanged. 3. The error of the file (file) is generated when the file (file) is returned to the server. The wrong body is generated when the wrong body is detected and the wrong body is detected. The electron deficiency of the ligand is due to the fact that the ligand is not present. 4. Comparison of the coordination forces of the ligand pairs shows that there are strong differences in the coordination forces of the ligand pairs. 5. The results of this study are as follows: 1. The structure of the compound of type R_nE-M=E^1R^1_m(E, E'= typical element,M= metal) at position 1 and 3 of the base group is generally described.