Study on light-emitting Si-based thin films
硅基发光薄膜的研究
基本信息
- 批准号:26390073
- 负责人:
- 金额:$ 3.16万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2014
- 资助国家:日本
- 起止时间:2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Light-emission properties of Yb and Ag co-doped Ta2O5 thin films fabricated by sputtering
溅射法制备Yb、Ag共掺杂Ta2O5薄膜的发光性能
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Kanakubo;K. Shimada;S. Segawa;M. Machida;K. Miura;W. Kada;K. Noguchi;and O. Hanaizumi
- 通讯作者:and O. Hanaizumi
Photoluminescence properties of Eu and Ag co-doped Ta2O5 thin films deposited by co-sputtering
共溅射沉积Eu、Ag共掺杂Ta2O5薄膜的光致发光性能
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Shimada;M. Kanakubo;S. Segawa;M. Machida;K. Miura;W. Kada;K. Noguchi;and O. Hanaizumi
- 通讯作者:and O. Hanaizumi
Effects of Si-layer-thickness ratio on UV-light-emission intensity from Si/SiO2 multilayered thin films prepared using radio-frequency sputtering
Si层厚比对射频溅射Si/SiO2多层薄膜紫外发光强度的影响
- DOI:10.4236/msa.2015.63025
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Miura;H. Hoshino;M. Honmi;and O. Hanaizumi
- 通讯作者:and O. Hanaizumi
Luminescent thin films for solar cell applications
用于太阳能电池应用的发光薄膜
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Mase;M. Tanaka;N. Ida;H. Kodama;and T. Kikuchi;K. Miura and O. Hanaizumi
- 通讯作者:K. Miura and O. Hanaizumi
Fabrication of ZnO periodic microstructures and evaluation of their luminescence
ZnO周期性微结构的制备及其发光评估
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Saito;O. Matsumoto;D. Yamazaki;Y. Hirano;K. Noguchi;W. Kada;K. Miura;and O. Hanaizumi
- 通讯作者:and O. Hanaizumi
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
MIURA Kenta其他文献
MIURA Kenta的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('MIURA Kenta', 18)}}的其他基金
Study on fabrication of scintillation detectors with periodic microstructures
周期性微结构闪烁探测器的制作研究
- 批准号:
18K07664 - 财政年份:2018
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on fabrication technology of photonic crystals composed of visible-light emitting tantalum-oxide thin films
可见光发射氧化钽薄膜光子晶体制备技术研究
- 批准号:
20760217 - 财政年份:2008
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
相似国自然基金
纳米SiO2与玄武岩纤维多尺度协同增强全再生混凝土抗冻性能及损伤劣化模型研究
- 批准号:52379137
- 批准年份:2023
- 资助金额:50 万元
- 项目类别:面上项目
基于有序介孔SiO2限域PbS量子点构筑中间带提升宽带隙钙钛矿太阳电池光伏性能
- 批准号:62305243
- 批准年份:2023
- 资助金额:30 万元
- 项目类别:青年科学基金项目
Cu-C/SiO2表面碳物种的有机物改性调控及其影响碳酸乙烯酯加氢性能的机制
- 批准号:22372059
- 批准年份:2023
- 资助金额:50 万元
- 项目类别:面上项目
超小非对称SiO2杂化纳米粒子的精准合成与生长机理
- 批准号:22365021
- 批准年份:2023
- 资助金额:32 万元
- 项目类别:地区科学基金项目
刺激响应型多维SiO2基Janus稠油乳化降粘剂研究
- 批准号:52374060
- 批准年份:2023
- 资助金额:50 万元
- 项目类别:面上项目
相似海外基金
熱酸化反応の精密制御による理想SiO2/SiC界面の実現
通过精确控制热氧化反应实现理想的SiO2/SiC界面
- 批准号:
24K01348 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
伝統産業に貢献する耐候性に優れた紫外線吸収ガラス添加「漆」塗膜の開発研究
研发添加紫外线吸收玻璃的“漆”涂膜,耐候性优异,为传统产业做出贡献
- 批准号:
22H04238 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
First-principles study for suppressing phase transition in silica Cristobalite structure
抑制二氧化硅方石英结构相变的第一性原理研究
- 批准号:
22K04694 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on the effect of residual damage on reliabilities in short-circuited SiC MOSFETs
残余损伤对短路SiC MOSFET可靠性影响的研究
- 批准号:
21H01303 - 财政年份:2021
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Investigation on the interface states at strained Si/SiO2 interfaces formed on Si(110) substrates
Si(110) 衬底上应变 Si/SiO2 界面的界面态研究
- 批准号:
21K04900 - 财政年份:2021
- 资助金额:
$ 3.16万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)