Development of plasma processing methods for the metallic oxide thin films having an electricity storage function
Development of plasma processing methods for the metallic oxide thin films having an electricity storage function
批准号:
26390098
负责人:
UCHINO Kiichiro
金额:
$3.33万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2017-03-31
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DOI:
10.1063/1.4952424
发表时间:
2016-05
期刊:
AIP Advances
影响因子:
1.6
作者:
[S. Inoue;T. Kawamoto;Y. Matsumura;K. Tomita;K. Uchino;K. Takata;H. Kajiyama]
通讯作者:
S. Inoue;T. Kawamoto;Y. Matsumura;K. Tomita;K. Uchino;K. Takata;H. Kajiyama
亜鉛シリコン酸化物の粒径及び組成とフォトクロミズム発現の関係
氧化锌的粒径和成分与光致变色表现的关系
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hirofumi Kurita, Junichiro Miyamoto, Yoshito Uchihashi, Saki Miyachika, Hachiro Yasuda, Kazunori Takashima, and Akira Mizuno, 井上修平,川本貴弘,松村幸彦,高田啓二,富田健太郎,内野喜一郎,梶山博司]
通讯作者:
井上修平,川本貴弘,松村幸彦,高田啓二,富田健太郎,内野喜一郎,梶山博司
フォトクロミック金属酸化物ナノ粒子の特性
光致变色金属氧化物纳米粒子的性能
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Shuhei Inoue, Takahiro Kawamoto, Yukihiko Matsumura, Kentaro Tomita, Kiichiro Uchino, Keiji Takata, and Hiroshi Kajiyama, 東 啓介,柴田崇史,荒谷 琢,向川政治,高木浩一, G. Uchida, 野崎隼斗,赤沢 拓,向川政治,高木浩一, 松井聡紀,井上修平,川本貴弘,松村幸彦,高田啓二,富田健太郎,内野喜一郎,梶山博司]
通讯作者:
松井聡紀,井上修平,川本貴弘,松村幸彦,高田啓二,富田健太郎,内野喜一郎,梶山博司
フォトミック金属酸化膜作製のためのプラズマプロセス
制备光敏金属氧化物薄膜的等离子体工艺
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[刀祢聖子, 久保山真, 川本貴裕, 井上修平, 内野喜一郎]
通讯作者:
内野喜一郎
Studies on the efficient emission mechanism of plasma display panels
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批准号:21360042
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.81万
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财政年份:2009
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负责人:UCHINO Kiichiro
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依托单位:
Study of PDP Micro-Discharges Using Laser Thomson Scattering
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批准号:14350190
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$9.28万
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财政年份:2002
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负责人:UCHINO Kiichiro
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依托单位:
Laser scattering measurements of electric field, electron density and electron temperature in a plasma-display discharge
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批准号:11650350
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.18万
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财政年份:1999
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负责人:UCHINO Kiichiro
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依托单位:
Development of an Infrared Thomson Scattering System for Diagnostics of Processing Plasmas
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批准号:10680462
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$1.92万
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财政年份:1998
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负责人:UCHINO Kiichiro
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依托单位:
海外基金