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Development of plasma processing methods for the metallic oxide thin films having an electricity storage function
具有蓄电功能的金属氧化物薄膜的等离子体处理方法的开发
基本信息
- 批准号：26390098
- 负责人：
- 金额：$ 3.33万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2014
- 资助国家：日本
- 起止时间：2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Synthesis of photochromic nanoparticles and determination of the mechanism of photochromism
- DOI：10.1063/1.4952424
- 发表时间：2016-05
- 期刊：
- 影响因子：1.6
- 作者：S. Inoue;T. Kawamoto;Y. Matsumura;K. Tomita;K. Uchino;K. Takata;H. Kajiyama
- 通讯作者：S. Inoue;T. Kawamoto;Y. Matsumura;K. Tomita;K. Uchino;K. Takata;H. Kajiyama
亜鉛シリコン酸化物の粒径及び組成とフォトクロミズム発現の関係
氧化锌的粒径和成分与光致变色表现的关系
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Hirofumi Kurita;Junichiro Miyamoto;Yoshito Uchihashi;Saki Miyachika;Hachiro Yasuda;Kazunori Takashima;and Akira Mizuno;井上修平，川本貴弘，松村幸彦，高田啓二，富田健太郎，内野喜一郎，梶山博司
- 通讯作者：井上修平，川本貴弘，松村幸彦，高田啓二，富田健太郎，内野喜一郎，梶山博司
フォトクロミック金属酸化物ナノ粒子の特性
光致变色金属氧化物纳米粒子的性能
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Shuhei Inoue;Takahiro Kawamoto;Yukihiko Matsumura;Kentaro Tomita;Kiichiro Uchino;Keiji Takata;and Hiroshi Kajiyama;東 啓介，柴田崇史，荒谷 琢，向川政治，高木浩一;G. Uchida;野崎隼斗，赤沢 拓，向川政治，高木浩一;松井聡紀，井上修平，川本貴弘，松村幸彦，高田啓二，富田健太郎，内野喜一郎，梶山博司
- 通讯作者：松井聡紀，井上修平，川本貴弘，松村幸彦，高田啓二，富田健太郎，内野喜一郎，梶山博司
フォトミック金属酸化膜作製のためのプラズマプロセス
制备光敏金属氧化物薄膜的等离子体工艺
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：刀祢聖子;久保山真;川本貴裕;井上修平;内野喜一郎
- 通讯作者：内野喜一郎
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Studies on the efficient emission mechanism of plasma display panels
等离子显示面板高效发射机理研究
- 批准号：
21360042 - 财政年份：2009
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Study of PDP Micro-Discharges Using Laser Thomson Scattering
利用激光汤姆逊散射研究 PDP 微放电
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14350190 - 财政年份：2002
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等离子显示放电中电场、电子密度和电子温度的激光散射测量
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$ 3.33万 - 项目类别：
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开发用于诊断处理等离子体的红外汤姆逊散射系统
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相似海外基金
大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜のサブナノ細孔構造制御と超薄膜製膜技術の確立
常压等离子体CVD法二氧化硅膜亚纳米孔结构控制及超薄膜形成技术的建立
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プラズマCVDを用いた低応力・高密度カーボンナノコンポジット膜の高速製膜法の創成
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- 批准号：
20J13122 - 财政年份：2020
- 资助金额：
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高選択透過アモルファス分離膜のプラズマCVD製膜とフレキシブルセラミック膜の創製
等离子体CVD制备高选择性渗透非晶分离膜及柔性陶瓷膜的制作
- 批准号：
21656199 - 财政年份：2009
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
マイクロ波プラズマCVD法によるハイパワーナノダイヤモンドダイオードの作製
微波等离子体CVD法制备高功率纳米金刚石二极管
- 批准号：
07J10950 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
高強度レーザー誘起プラズマCVD法によるセラミックス膜の超高速合成とナノ構造制御
高强度激光诱导等离子体CVD法陶瓷薄膜的超快合成和纳米结构控制
- 批准号：
17686055 - 财政年份：2005
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
プラズマCVDによるTiN-基組成傾斜膜のコーティングと耐腐食性
等离子CVD制备TiN基成分梯度薄膜及其耐蚀性能
- 批准号：
03F03293 - 财政年份：2003
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
プラズマCVDによるTiN基組成傾斜膜のコーティングと耐腐食性
等离子体CVD制备TiN基成分梯度薄膜及其耐蚀性能
- 批准号：
03F00293 - 财政年份：2003
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
プラズマCVD法によるシリコン結晶成長過程における水素原子の動力学に関する研究
等离子体CVD法硅晶体生长过程中氢原子动力学研究
- 批准号：
13750033 - 财政年份：2001
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
低誘電率層間絶縁膜作製プラズマCVDの表面和周波発生振動分光による診断
使用等离子体CVD表面和频产生振动光谱诊断低介电常数层间绝缘膜生产
- 批准号：
12750269 - 财政年份：2000
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
大気圧グロー放電プラズマによるレーザ発振およびプラズマCVDへの応用
使用大气压辉光放电等离子体的激光振荡和等离子体CVD的应用
- 批准号：
09750820 - 财政年份：1997
- 资助金额：
$ 3.33万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)