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電極還元によるケイ素-異原子間結合連鎖形成およびその構造制御

硅杂原子键链的形成及其电极还原结构控制

基本信息

批准号：
10133254
负责人：
柏村成史
金额：
$ 1.28万
依托单位：
Kinki University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
财政年份：
1998
资助国家：
日本
起止时间：
1998 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究では、反応性電極を用いた電極還元反応においてSi-Si結合が開裂し、活性なシリルアニオン種が発生することを見出した。特に、オリゴシランを形成するケイ素連鎖の数により結合開裂の傾向が異なり、電極還元法を用いることで、この差異を積極的に利用して、位置選択的に結合切断を行うことができることが明らかになった。また、このようにして発生させたシリルアニオン種を求核剤とすることで、新規ケイ素-ケイ素結合、ケイ素-ゲルマニウム結合、および、ケイ素一炭素結合形成反応が起こることを見出した。この方法の開発により、従来に例を見ない全く新しいタイプのポリシランを合成出来るだけでなく、シラン-ゲルマン共重合体を合成することも可能になった。また、電極還元反応により生成するシリルアニオンの再結合反応をも見出したが、この反応を利用すると、ポリシランや、シラン-ゲルマン共重合体の分子量を顕著に向上出来ることも明らかになった。さらに、ヒドロシラン類の電極還元重合反応により、構造制御を行ったポリシランを高収率で合成することにも成功した。

In this study, the reactive electrode was used to reduce the cracking of the reactive Si-Si bond and the active refractory electrode. 特に、オリゴシラThe formation of するケイ element chain のnumber により combination cracking tendency がdifferent なり, electrode reduction method をいることで, こThe difference is the active use of the combination of the location selection and the cut-off line. また, このようにして発生させたシリルアニオンkind とすることで, Shingui ケイ素-ケイ素Combination, ケイ element - ゲルマニウム combination, および, ケイ element and carbon element combine to form the anti-が开こることを见出した.この法の开発により、従来に Exampleを见ない全く新しいタイプのポリシランを synthesis Out of the るだけでなく, シラン-ゲルマン co-overlapping body をsynthetic することもpossible になった. また、Electrode reduction reaction によりGeneration するシリルアニオンのRecombination reaction 応をも见出したが、このReaction をutilizationすThe molecular weight of the ると, ポリシランや, and シラン-ゲルマン co-overlapping body is high and the ることも明らかになった. The さらに, ヒドロシラン type electrode recombination reaction により, structural control を行ったポリシランをhigh-yield synthesis することにもsucceeded.