Ion etching modeling of integrated circuits

集成电路的离子刻蚀建模

基本信息

  • 批准号:
    447646-2013
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.68万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    加拿大
  • 项目类别:
    Engage Grants Program
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    加拿大
  • 起止时间:
    2013-01-01 至 2014-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This project will involve the development of a software tool for the simulation of the application of dry etching
这个项目将涉及一个软件工具的开发,用于模拟干法蚀刻的应用

项目成果

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数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Smy, Tom其他文献

Circular Optical Phased Array with Large Steering Range and High Resolution.
  • DOI:
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  • 期刊:
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  • 作者:
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  • 发表时间:
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  • 期刊:
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    5.3
  • 作者:
    Liu, Qiankun;Benedikovic, Daniel;Smy, Tom;Atieh, Ahmad;Cheben, Pavel;Ye, Winnie N.
  • 通讯作者:
    Ye, Winnie N.
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  • DOI:
    10.1109/tadvp.2010.2054089
  • 发表时间:
    2010-11-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Gunupudi, Pavan;Smy, Tom;Jakubczyk, Z. Jan
  • 通讯作者:
    Jakubczyk, Z. Jan

Smy, Tom的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Smy, Tom', 18)}}的其他基金

Multi-physics Simulation and Modelling of Metasurfaces for Communications and Sensor Applications from Device to System
用于从设备到系统的通信和传感器应用的超表面的多物理场仿真和建模
  • 批准号:
    RGPIN-2019-06315
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.68万
  • 项目类别:
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    RGPIN-2019-06315
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Multi-physics Simulation and Modelling of Metasurfaces for Communications and Sensor Applications from Device to System
用于从设备到系统的通信和传感器应用的超表面的多物理场仿真和建模
  • 批准号:
    RGPIN-2019-06315
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    RGPIN-2019-06315
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    Discovery Grants Program - Individual
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    493622-2016
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    Discovery Grants Program - Individual
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  • 批准号:
    451226-2013
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 1.68万
  • 项目类别:
    Collaborative Research and Development Grants
CAD for optical circuit modeling for integrated systems
用于集成系统光路建模的 CAD
  • 批准号:
    451226-2013
  • 财政年份:
    2013
  • 资助金额:
    $ 1.68万
  • 项目类别:
    Collaborative Research and Development Grants
Co-simulation of multi-domain physical and electronic systems
多域物理和电子系统联合仿真
  • 批准号:
    46212-2009
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 1.68万
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
Co-simulation of multi-domain physical and electronic systems
多域物理和电子系统联合仿真
  • 批准号:
    46212-2009
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    2011
  • 资助金额:
    $ 1.68万
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    Discovery Grants Program - Individual

相似海外基金

Precision Dry Etching of 2D Materials: 2DETCH
2D 材料的精密干法蚀刻:2DETCH
  • 批准号:
    EP/Z531121/1
  • 财政年份:
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    536792788
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    2024
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合作研究: EPIIC:扩大高影响力和新增长 (ETCHING) 队列的团队能力
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金刚石表面热化学和等离子体辅助蚀刻的理论研究和设计
  • 批准号:
    23KJ1431
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.68万
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Collaborative Research: DMREF: Computationally Driven Discovery and Synthesis of 2D Materials through Selective Etching
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  • 批准号:
    2324157
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.68万
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Collaborative Research: DMREF: Computationally Driven Discovery and Synthesis of 2D Materials through Selective Etching
合作研究:DMREF:通过选择性蚀刻计算驱动的 2D 材料发现和合成
  • 批准号:
    2324156
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.68万
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  • 批准号:
    2240554
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.68万
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    Standard Grant
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MRI:轨道 1 采购深度反应离子蚀刻系统以增强半导体加工能力
  • 批准号:
    2320476
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.68万
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    Standard Grant
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中红外激光辅助近场蚀刻 ~ 化合物半导体的非接触超平坦化
  • 批准号:
    23K03616
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.68万
  • 项目类别:
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HF vapor etching machine
高频气相蚀刻机
  • 批准号:
    527538686
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.68万
  • 项目类别:
    Major Research Instrumentation
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了