Ion etching modeling of integrated circuits
集成电路的离子刻蚀建模
基本信息
- 批准号:447646-2013
- 负责人:
- 金额:$ 1.68万
- 依托单位:
- 依托单位国家:加拿大
- 项目类别:Engage Grants Program
- 财政年份:2013
- 资助国家:加拿大
- 起止时间:2013-01-01 至 2014-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
This project will involve the development of a software tool for the simulation of the application of dry etching
这个项目将涉及一个软件工具的开发,用于模拟干法蚀刻的应用
项目成果
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