Atomic Layer Deposition of Complex Oxides for Novel Devices

用于新型器件的复合氧化物的原子层沉积

基本信息

  • 批准号:
    RGPIN-2017-05858
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.7万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    加拿大
  • 项目类别:
    Discovery Grants Program - Individual
  • 财政年份:
    2021
  • 资助国家:
    加拿大
  • 起止时间:
    2021-01-01 至 2022-12-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

aluminum zirconium oxide; atomic layer deposition; bulk defects; complex oxides; gallium nitride; gate oxides; low interface defects; power devices; silicon nitride; zinc oxide
铝锆氧化物;原子层沉积;体缺陷;复合氧化物;氮化镓;栅极氧化物;界面缺陷少;动力装置;氮化硅;氧化锌

项目成果

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  • 资助金额:
    $ 2.7万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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