刷新
{{item.name}}会员
X-ray projection lithography
X射线投影光刻
基本信息
- 批准号：100902-1990
- 负责人：
- 金额：$ 6.19万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Strategic Projects - Group
- 财政年份：1992
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：1992-01-01 至 1993-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
No summary - Aucun sommaire
没有总结 - Aucun sommaire
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
Pepin, Henri其他文献
Pepin, Henri的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
{{ truncateString('Pepin, Henri', 18)}}的其他基金
Étude de faisabilité du déclenchement contrôlé de la foudre par laser
激光源控制解除的可行性研究
- 批准号：
192178-1995 - 财政年份：1996
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Collaborative Research and Development Grants
Laser-matter interaction: Fundamental research and applications
激光与物质相互作用：基础研究和应用
- 批准号：
38124-1991 - 财政年份：1993
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Group
Optimization of processes for X-ray mask fabrication
X 射线掩模制造工艺的优化
- 批准号：
120602-1991 - 财政年份：1992
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Collaborative Research and Development Grants
Laser-matter interaction: Fundamental research and applications
激光与物质相互作用：基础研究和应用
- 批准号：
38124-1991 - 财政年份：1992
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Group
Facilités d'interaction laser-matière et de procédés laser
激光交互设施和激光处理
- 批准号：
8677-1992 - 财政年份：1992
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Infrastructure Grants (H)
X-ray projection lithography
X射线投影光刻
- 批准号：
100902-1990 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Strategic Projects - Group
Laser-matter interaction: Fundamental research and applications
激光与物质相互作用：基础研究和应用
- 批准号：
38124-1991 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Group
Optimization of processes for X-ray mask fabrication
X 射线掩模制造工艺的优化
- 批准号：
120602-1991 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Collaborative Research and Development Grants
Facilités d'interaction laser-matière de l'INRS-Energie
INRS-Energie 激光交互设施
- 批准号：
8677-1989 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Infrastructure Grants (H)
Second atelier canadien sur la lithographie-x, Varennes, Quebec, 1 novembre 1991
加拿大第二工作室 sur la lithographie-x，瓦伦斯，魁北克，1991 年 11 月 1 日
- 批准号：
121018-1991 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Workshops and Seminars (H)
相似国自然基金
基于再生运动神经路径优化Agrin作用促进损伤神经靶向投射的功能研究
- 批准号：82371373
- 批准年份：2023
- 资助金额：49.00 万元
- 项目类别：面上项目
mPFC-VTA-NAc多巴胺能投射调控丙泊酚麻醉—觉醒的机制研究
- 批准号：82371284
- 批准年份：2023
- 资助金额：49.00 万元
- 项目类别：面上项目
基于个体分析的投影式非线性非负张量分解在高维非结构化数据模式分析中的研究
- 批准号：61502059
- 批准年份：2015
- 资助金额：19.0 万元
- 项目类别：青年科学基金项目
相似海外基金
CAREER: Rapid Manufacture of Three-Dimensional Nanostructures for Nano-enabled Devices Using Projection Two-Photon Lithography
职业：使用投影双光子光刻技术快速制造纳米设备的三维纳米结构
- 批准号：
2045147 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Standard Grant
Research on lithography using projection exposure of stereophonic surface
立体声表面投影曝光光刻技术研究
- 批准号：
20K05293 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Experimental and Theoretical Study of Femtosecond Microscale 3D Light Field Projection and Its Application in Multiphoton 3D Light Field Lithography
飞秒微尺度3D光场投影实验与理论研究及其在多光子3D光场光刻中的应用
- 批准号：
1826078 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Standard Grant
SBIR Phase I: Exposure Controlled Projection Lithography for Fabrication of Physical Shaped GRIN Optics
SBIR 第一阶段：用于制造物理形状梯度折射率光学器件的曝光控制投影光刻
- 批准号：
1315661 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Standard Grant
AIR Option 2: Research Alliance - Development of key technology for next generation projection lithography of integrated circuits at 6.X nm wavelength
AIR选项2：研究联盟——开发下一代6.X nm波长集成电路投影光刻关键技术
- 批准号：
1343456 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Standard Grant
Fabrication of Ferroelectric Nanocapacitors by Electron-beam Projection Patterning
通过电子束投影图案化制造铁电纳米电容器
- 批准号：
15560277 - 财政年份：2003
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Optical projection lithography using gradation stitching of the exposure fields
使用曝光场的渐变拼接的光学投影光刻
- 批准号：
11650050 - 财政年份：1999
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Non-planar lithography using holographic projection
使用全息投影的非平面光刻
- 批准号：
07455059 - 财政年份：1995
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Conference: Organization of the 1992 Soft-X-Ray Projection Lithography Topical Meeting to be held in Monterey, CA, on April 6-8, 1992.
会议：组织 1992 年软 X 射线投影光刻专题会议，将于 1992 年 4 月 6 日至 8 日在加利福尼亚州蒙特雷举行。
- 批准号：
9215288 - 财政年份：1992
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Standard Grant
X-ray projection lithography
X射线投影光刻
- 批准号：
100902-1990 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 6.19万 - 项目类别：
Strategic Projects - Group