X-ray projection lithography
X射线投影光刻
基本信息
- 批准号:100902-1990
- 负责人:
- 金额:$ 6.12万
- 依托单位:
- 依托单位国家:加拿大
- 项目类别:Strategic Projects - Group
- 财政年份:1991
- 资助国家:加拿大
- 起止时间:1991-01-01 至 1992-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
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项目成果
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Étude de faisabilité du déclenchement contrôlé de la foudre par laser
激光源控制解除的可行性研究
- 批准号:
192178-1995 - 财政年份:1996
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Collaborative Research and Development Grants
Laser-matter interaction: Fundamental research and applications
激光与物质相互作用:基础研究和应用
- 批准号:
38124-1991 - 财政年份:1993
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Discovery Grants Program - Group
X-ray projection lithography
X射线投影光刻
- 批准号:
100902-1990 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Strategic Projects - Group
Optimization of processes for X-ray mask fabrication
X 射线掩模制造工艺的优化
- 批准号:
120602-1991 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Collaborative Research and Development Grants
Laser-matter interaction: Fundamental research and applications
激光与物质相互作用:基础研究和应用
- 批准号:
38124-1991 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Discovery Grants Program - Group
Facilités d'interaction laser-matière et de procédés laser
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- 批准号:
8677-1992 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
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Laser-matter interaction: Fundamental research and applications
激光与物质相互作用:基础研究和应用
- 批准号:
38124-1991 - 财政年份:1991
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Discovery Grants Program - Group
Optimization of processes for X-ray mask fabrication
X 射线掩模制造工艺的优化
- 批准号:
120602-1991 - 财政年份:1991
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Collaborative Research and Development Grants
Facilités d'interaction laser-matière de l'INRS-Energie
INRS-Energie 激光交互设施
- 批准号:
8677-1989 - 财政年份:1991
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Infrastructure Grants (H)
Second atelier canadien sur la lithographie-x, Varennes, Quebec, 1 novembre 1991
加拿大第二工作室 sur la lithographie-x,瓦伦斯,魁北克,1991 年 11 月 1 日
- 批准号:
121018-1991 - 财政年份:1991
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Workshops and Seminars (H)
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基于再生运动神经路径优化Agrin作用促进损伤神经靶向投射的功能研究
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- 批准号:61502059
- 批准年份:2015
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CAREER: Rapid Manufacture of Three-Dimensional Nanostructures for Nano-enabled Devices Using Projection Two-Photon Lithography
职业:使用投影双光子光刻技术快速制造纳米设备的三维纳米结构
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2045147 - 财政年份:2021
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Standard Grant
Research on lithography using projection exposure of stereophonic surface
立体声表面投影曝光光刻技术研究
- 批准号:
20K05293 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Experimental and Theoretical Study of Femtosecond Microscale 3D Light Field Projection and Its Application in Multiphoton 3D Light Field Lithography
飞秒微尺度3D光场投影实验与理论研究及其在多光子3D光场光刻中的应用
- 批准号:
1826078 - 财政年份:2018
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$ 6.12万 - 项目类别:
Standard Grant
SBIR Phase I: Exposure Controlled Projection Lithography for Fabrication of Physical Shaped GRIN Optics
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- 批准号:
1315661 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Standard Grant
AIR Option 2: Research Alliance - Development of key technology for next generation projection lithography of integrated circuits at 6.X nm wavelength
AIR选项2:研究联盟——开发下一代6.X nm波长集成电路投影光刻关键技术
- 批准号:
1343456 - 财政年份:2013
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Standard Grant
Fabrication of Ferroelectric Nanocapacitors by Electron-beam Projection Patterning
通过电子束投影图案化制造铁电纳米电容器
- 批准号:
15560277 - 财政年份:2003
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Optical projection lithography using gradation stitching of the exposure fields
使用曝光场的渐变拼接的光学投影光刻
- 批准号:
11650050 - 财政年份:1999
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Non-planar lithography using holographic projection
使用全息投影的非平面光刻
- 批准号:
07455059 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
X-ray projection lithography
X射线投影光刻
- 批准号:
100902-1990 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Strategic Projects - Group
Conference: Organization of the 1992 Soft-X-Ray Projection Lithography Topical Meeting to be held in Monterey, CA, on April 6-8, 1992.
会议:组织 1992 年软 X 射线投影光刻专题会议,将于 1992 年 4 月 6 日至 8 日在加利福尼亚州蒙特雷举行。
- 批准号:
9215288 - 财政年份:1992
- 资助金额:
$ 6.12万 - 项目类别:
Standard Grant