Kombiniertes Rasterelektronenmikroskop mit fokussiertem Ionenstrahl (REM/FIB Dualbeam)

“<s:1>激光模具Reinräume des Instituts fir Technische Optik wind in SEM/FIB-Dualbeam-Gerät beantragt.”在einem Gerät和bebetriebsmodi höchste Auflösungen之间分别进行了扫描电镜（SEM）和红外光谱（FIB）分析。alsnobe - and Analysezentrum solesandangengenen研究所ermöglichen， Forschungim - berichnano - and microsystemtechnik - zubebeweric生产技术技术和dieebenfalls研究机构<e:1>之间的关系。Dabei ist ein wesentliches Ziel dieErschließung neuer, hochauflösender Skalenbereiche fgr die Mess- und Fertigungstechnik。DieAnalysemöglichkeiten, die eine FIB-Schnittfunktion bietet, die Möglichkeit nahezu believe Materialiennanoskalig zu struckturieren and die herausragen Auflösung der Elektronenoptik sind dabei diewesentlichen Merkmale eines solchen Kombigerätes。本文研究了一种新型的纳米钙素纳米光刻技术（纳米钙素纳米光刻技术）。

„Für die Reinräume des Instituts für Technische Optik wird ein SEM/FIB-Dualbeam-Gerät beantragt.Es beinhaltet die Funktionen Rasterelektronenmikroskop (SEM) und fokussierter lonenstrahl (FIB)kombiniert in einem Gerät und liefert in beiden Betriebsmodi höchste Auflösungen. AlsNanobearbeitungs- und Analysezentrum soll es den beantragenden Instituten ermöglichen, Forschungim Bereich Nano- und Mikrosystemtechnik zu betreiben sowie produktionstechnische Aspekte und dieebenfalls hierfür notwendige Messtechnik abzudecken. Dabei ist ein wesentliches Ziel dieErschließung neuer, hochauflösender Skalenbereiche für die Mess- und Fertigungstechnik. DieAnalysemöglichkeiten, die eine FIB-Schnittfunktion bietet, die Möglichkeit nahezu beliebige Materialiennanoskalig zu strukturieren und die herausragende Auflösung der Elektronenoptik sind dabei diewesentlichen Merkmale eines solchen Kombigerätes. Das beantragte System wird in eine bestehendelaserlithografische Fertigungskette mit nanoskaligen Replikationsmöglichkeiten eingebettet sein.