I/UCRC Phase II: Center for Lasers and Plasma for Advanced Manufacturing
I/UCRC Phase II: Center for Lasers and Plasma for Advanced Manufacturing
批准号:
1540030
负责人:
David Ruzic
金额:
$13.5万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Continuing Grant
财政年份:
2015
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-09-15 至 2020-08-31
中文摘要
激光和等离子体都有能力在接触时改变物质。关键是改变物质以达到某种特定的目的;创造一种新材料,新产品或新技术。联合是多大学工业/大学合作研究中心(I/UCRC)的一部分,用于先进制造的激光和等离子体(LPAM)。弗吉尼亚州。该中心专注于制造业的下一个进步。美国制造各种东西。美国国家科学基金会的支持使LPAM能够继续与工业成员合作,使用最新的激光和等离子体技术,使这些东西更好,更便宜,更快,或者三者兼而有之。伊利诺伊州在该中心的作用是在等离子体工程的具体用途。该网站带来了广泛的等离子体和等离子体制造技术,并致力于解决等离子体制造中的短期和长期研究问题。更具体地说,美国政府正在采取行动。主要致力于大规模等离子体沉积系统、激光辅助定向蚀刻和大气等离子体诱导聚合的开发。
英文摘要
Both lasers and plasmas have the ability to alter a substance on contact. The key is to alter that substance to some particular aim; to create a new material, new product, or new technique. The U. of Illinois is part of the multi-university Industry/University Cooperative Research Center (I/UCRC) for Lasers and Plasmas for Advanced Manufacturing (LPAM) anchored at the U. of Virginia. The Center focuses on the next advances in manufacturing. U.S. country makes all kinds of things. This support from the NSF allows LPAM to continue working with industrial members to use the latest in laser and plasma technology to make those things better, or cheaper, or faster, or all three.The U. of Illinois's role in the Center is in specific uses of plasma engineering. The site brings a wide spectrum of plasmas and plasma manufacturing techniques, and works towards solving a multitude of research problems in plasma manufacturing that are both near-term and long-term. More specifically, the U. of Illinois focuses around development of large-scale plasma deposition system, directed etching assisted by lasers, and atmospheric plasma induced polymerization.
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PFI:AIR - TT: High-Rate High-Powered Pulsed Magnetron Sputtering (HPPMS) Prototype Development
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批准号:1500271
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$20.0万
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财政年份:2015
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负责人:David Ruzic
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依托单位:
GOALI: In-Situ Plasma Cleaning of Optics: Building a Fundamental Understanding of the Etch Process in a Complex Plasma Environment
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批准号:1436081
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$28.72万
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财政年份:2014
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负责人:David Ruzic
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依托单位:
Center for Lasers and Plasmas for Advanced Manufacturing
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批准号:0934400
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项目类别:Continuing Grant
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资助金额:$29.25万
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财政年份:2009
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负责人:David Ruzic
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依托单位:
NSF I/UCRC Joining" Center for Lasers and Plasmas for Advanced Manufacturing"
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批准号:0758508
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$1.0万
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财政年份:2008
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负责人:David Ruzic
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依托单位:
Pulsed Electron-Beam-Generated Plasma Atomic-Layer Deposition (PEGPAD)
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批准号:9201689
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项目类别:Continuing Grant
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资助金额:$27.5万
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财政年份:1992
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负责人:David Ruzic
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依托单位:
Presidential Young Investigator Award: Plasma-Material Interactions
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批准号:8451599
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项目类别:Continuing Grant
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资助金额:$33.25万
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财政年份:1985
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负责人:David Ruzic
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依托单位:
国内基金
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Baryogenesis, Dark Matter and Nanohertz Gravitational Waves from a Dark
Supercooled Phase Transition
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批准号:24ZR1429700
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2024
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依托单位:
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批准号:11961141014
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项目类别:国际(地区)合作与交流项目
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负责人:黄卓
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项目类别:面上项目
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负责人:张殿琳
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依托单位: