PVD Beschichtungsanlage mit mehreren unabhängigen Targets

该方法是一种基于热靶-热处理系统的物理气相沉积（PVD）方法。在一个单一的解决方案Beschichtungsanlage中，该方法可以有效地控制目标，而Synthese sehr komplexer mehrlagiger Schichtsysteme也可以通过复合材料来实现。该选项与Tatsache组合，使目标相对中性，具有简单的磁控溅射-可使韦尔登溶解，因此可以使用新的工艺，在理想的Weise ergänzen bzw中使用Lehrstuhl für Oberflächen- und Werkstofftechnologie的aktuelle Arbeiten。就像她在锡根大学的时候一样。如果系统是如此的庞大，那么它就能使基础研究和先进的工艺技术相互交叉。Es kann somit dazu genutzt韦尔登，bereits vorhandene Prozesse auf zu skalieren oder aber neuartige Prozesse für Substrate industrieller Relevanz zu etablieren. Der Bereich der anwendungsnahen Forschung würde hierdurch potentiell signifikant ausgebaut und verstärkt韦尔登.

Das hier beantragte physical vapor deposition (PVD) basierte Mehrtarget-Beschichtungssystem verfolgt zwei Hauptziele. Zum einen ermöglicht eine solche Beschichtungsanlage, die über mehrere unabhängig voneinander kontrollierbare Targets verfügt, die Synthese sehr komplexer mehrlagiger Schichtsysteme wie auch entsprechender gegebenenfalls gradierter Kompositmaterialien. Diese Option in Kombination mit der Tatsache, dass eines der Targets als relativ neuartige Hochleistungsimpuls-Magnetronsputter-Quelle ausgelegt werden soll, eröffnet somit völlig neue Beschichtungsmöglichkeiten, die aktuelle Arbeiten am Lehrstuhl für Oberflächen- und Werkstofftechnologie in idealer Weise ergänzen bzw. erweitern und wie sie zur Zeit an der Universität Siegen so nicht vorhanden sind. Zum anderen ist das System so dimensioniert, dass es als Brücke zwischen der grundlagenorientierten Forschung und anwendungsnaher Beschichtungstechnik fungieren kann. Es kann somit dazu genutzt werden, bereits vorhandene Prozesse auf zu skalieren oder aber neuartige Prozesse für Substrate industrieller Relevanz zu etablieren. Der Bereich der anwendungsnahen Forschung würde hierdurch potentiell signifikant ausgebaut und verstärkt werden.