Plasmaprozesssystem zur Abscheidung und zum Trockenätzen von dünnen Schichten

我们不再支持纳米光技术和等离子体技术，而不是纳米技术和纳米技术。大足是由施里特和施里特组成的，这是一种全新的精神状态。每个Strukturierung eines auf die Schicht aufgebrachten聚合物薄膜连指光刻技术都是在Schicht Selbstübertraden中进行的。Das in Diesem Antrag Beschriebene Kombinierte Plamassystem ermöglicht is MIT höchster Qualityät t，and wird in einem von der Gruppe Geleiteten 170 Quadrateter umfassenden Reinraum in DEM Neuen NanoInstitute t München der LMU untergebratht den.伦敦帝国理工学院和伦敦帝国理工学院是一所新的基础设施建设和管理机构。在德国新学院里，你可以在这里找到你想要的。从今天起，我们将不再使用等离子体处理系统。

Unsere Forschung im Bereich der Nanophotonik und der Plasmonik beruht auf der Nanostrukturierung von dünnen Schichten und der Herstellung von einzelnen Strukturen mit Abmessungen im Nanometerbereich. Dazu ist es in einem ersten Schritt unbedingt erforderlich, dünne Schichten aus Dielektrika und Halbleitern mit hoher Qualität abscheiden zu können. Nach erfolgter Strukturierung eines auf die Schicht aufgebrachten Polymerfilms mittels Elektronenstrahllithographie muss diese Strukturierung dann durch einen trockenen Ätzprozess in die Schicht selbst übertragen werden. Das in diesem Antrag beschriebene kombinierte Plasmasystem ermöglicht dies mit höchster Qualität, und wird in einem von der Gruppe geleiteten 170 Quadratmeter umfassenden Reinraum in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, was einen Neuaufbau unserer Infrastruktur zur Nanofabrikation mit sich bringt. Die hier beantragte Gerätekombination stellt des Weiteren einen Teil der mir zugesagten Erstaustattung meiner Labore in dem neuen Institut dar. Unsere gesamte Forschung auf dem Gebiet der Nanophotonik mit strukturierten Dielektrika ist ohne den Aufbau dieses Plasmaprozesssystems nicht möglich.