Mit MOCVD-präparierte Multischichtsysteme im direkten Vergleich mit UHV-PVD-Schichten

Die Erzeugung ultradünner Metall-Nichtmetall Multischichtsysteme mit Schichtdicken im Bereich weniger Atomlagen ist eine Herausforderung，bei der conventionelle Präparationsstrategien an ihre Grenzen stoßen.该Schichtsysteme besitzen große technologische Bedeutung im Bereich der Nanoelektronik，Röntgenoptik，etc. durch die Nutzung maßgeschneiderter metallorganischer Verbindungen als Precursor in Verbindung mit einem Reaktor，der mit einem in-situ Analyseverfahren zur Schichtdickencharakterisierung ausgestattet ist ist，因此，在纳米多层膜的MOCVD-Abscheidung中，需要一种新的Möglichkeiten。采用物理合成法合成金属有机化合物的方法，在化学或人工化学中进行2号项目的装置，在项目中进行超高压PVD-多组分分析。该项目是“纳米化学体系”研究小组的一个重要的化学和物理研究领域。该项目的结构包括3个项目：UP I：硅元素、钼和钨的前体分子，氧化物的分离UP II：MOCVD-Verfahren和deren röntgenoptische in situ CharakterisierungUP III：利用超高压PVDSchichten对MOCVD-Schichtsystem进行了辐射光、光物理学和微生物学分析。

Die Erzeugung ultradünner Metall-Nichtmetall Multischichtsysteme mit Schichtdicken im Bereich weniger Atomlagen ist eine Herausforderung, bei der konventionelle Präparationsstrategien an ihre Grenzen stoßen. Diese Schichtsysteme besitzen große technologische Bedeutung im Bereich der Nanoelektronik, Röntgenoptik, etc. durch die Nutzung maßgeschneiderter metallorganischer Verbindungen als Precursor in Verbindung mit einem Reaktor, der mit einem in-situ Analyseverfahren zur Schichtdickencharakterisierung ausgestattet ist, ergeben sich neuartige Möglichkeiten der MOCVD-Abscheidung von Nanometer-Multischichten.An der gemeinsamen MOCVD-Apparatur des Projektes 2 im Chemielabor arbeiten Chemiker mit langjähriger Erfahrung im Bereich der Synthese metallorganischer Verbindungen mit Physikern zusammen, die ihre Erfahrungen aus der Herstellung und Analyse ultradünner PVD-Multischichten in das Projekt einbringen. Dieses Projekt stellt daher eine wichtige Nahtstelle zwischen Chemie und Physik innerhalb der Forschergruppe "Nanometerschichtsysteme" dar.Die Projektstruktur gliedert sich in 3 Unterprojekte:UP I: Precursormoleküle zur Abscheidung der Elemente Silizium, Molybdän und Wolfram, der Oxide von Siliziumsowie MolybdänsilicidUP II: Präparation von Schichten nach dem MOCVD-Verfahren und deren röntgenoptische in-situ CharakterisierungUP III: Analyse der MOCVD-Schichtsysteme mit röntgenoptischen, oberflächenphysikalischen und mikroskopischen ex-situ Verfahren und Vergleich mit entsprechenden UHV-PVDSchichten.