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Mask Aligner

Mask Aligner
掩模对准器
批准号:
56624344
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2007
资助国家:
德国
项目状态:
未结题
起止时间:
2006-12-31 至 --
关键词:

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
这是一种新的技术和技术,而不是一种新的技术。这张面具的对齐方式是将所有的面具和衬底放在一起,而不是把所有的东西放在一起。他说:“这是一件很重要的事情,我不能再做任何事情了,我不能再做任何事情了。”Gerät,das das Institut Seit 1996 Besitzt,Weist inzwitchen deutliche and ma?gebliche Mänsel auf.他说:“我不知道你的名字是什么,我也不知道。这是一件很重要的事情,这是一件很重要的事情,因为这是一件很重要的事情。这不是一次挖掘,而是一次又一次的旅行。他说:“这是一件非常重要的事情。”这是一种硬软件统计和技术支持。
英文摘要
Die Fotolithografie ist eine Kerntechnologie in der Mikrosystemtechnik und kommt in nahezu jedem mikrotechnischen Fertigungsablauf zum Einsatz. Der Mask Aligner ermöglicht dabei die präzise Justierung von Maske und Substrat und anschließend die hochgenaue Übertragung der Mikrostrukturen und ist somit ein zentrales und unverzichtbares Gerät für die Fotolithografie. Es gibt keine andere Möglichkeit bzw. kein anderes Gerät, das diese hohen Anforderungen erfüllt, ohne die es aber nicht möglich ist, Komponenten für Mikrosensoren, –aktoren und –systeme zu fertigen Am Institut für Mikrotechnik wird der Mask Aligner für jedes Forschungsprojekt benötigt. Das Gerät, das das Institut seit 1996 besitzt, weist inzwischen deutliche und maßgebliche Mängel auf. Eine vor kurzem vom Hersteller durchgeführte Wartung hat ergeben, dass diese Mängel nicht mehr zu beheben sind. Es ist damit zu rechnen, dass das Gerät kurzfristig ganz ausfällt, was die Einstellung der gesamten mikrotechnischen Fertigung und damit eine langfristige Unterbrechung nahezu aller Forschungsarbeiten zur Folge haben würde. Es ist daher zwingend notwendig, rechtzeitig ein Ersatzgerät zu beschaffen. Das beantragte Ersatzgerät entspricht hinsichtlich seiner grundsätzlichen Leistungsmerkmale dem des vorhandenen Geräts. Bezüglich der Belichtungseinheit und der Hard- und Softwareausstattung ist es dem aktuellen Stand der Technik angepasst.
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