U.S.-France Cooperative Research: Plasma Processes in Microelectronics Materials Preparation
美法合作研究:微电子材料制备中的等离子体工艺
基本信息
- 批准号:9115805
- 负责人:
- 金额:$ 1.48万
- 依托单位:
- 依托单位国家:美国
- 项目类别:Standard Grant
- 财政年份:1992
- 资助国家:美国
- 起止时间:1992-05-01 至 1996-04-30
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
This three-year award supports cooperative research on plasma processes in microelectronic materials between Eugene Irene of the University of North Carolina and Bernard Agius of the University of Paris (South), Orsay, France. Plasmas are used extensively for the preparation of thin films for application in microelectronic devices. In this proposal the investigators will study the mechanisms for changes in plasmas during film growth and surface preparation and develop methods for modifying plasmas in order to optimize desirable properties and minimize damage during preparation of thin films. Using techniques developed at the University of North Carolina, the U.S. investigator will focus on the evolution of plasma damage processes, in particular, those properties which produce damage, and the procedures which minimize damage. Samples will be prepared and characterized using ECR (Electron Cyclotron Resonance). Characterization of these materials will be performed simultaneously at both Orsay and North Carolina. The project will benefit from these combined efforts, the redundant experiments and the complementary facilities. This research will advance our knowledge about plasma processes and its relationship to the production of very thin films. The results of this research will be important to the development of high performance electronic devices.
这个为期三年的奖项支持等离子体的合作研究 微电子材料工艺, 北卡罗来纳州大学和该大学的伯纳德·阿吉乌斯 的巴黎(南),奥赛,法国。 等离子体广泛用于 微电子薄膜制备 装置. 在本提案中,研究人员将研究 在薄膜生长和表面等离子体的变化机制 制备和开发用于修改等离子体的方法, 优化所需的性能,并最大限度地减少损坏, 薄膜的制备。 利用北卡罗来纳州大学开发的技术, 美国研究人员将重点关注等离子体损伤的演变 过程,特别是那些产生损害的性质, 以及尽量减少损害的程序。 样品将 使用ECR(电子回旋加速器)制备和表征 共振)。将对这些材料进行表征 同时在奥赛和北卡罗来纳州。 该项目将 受益于这些共同的努力,多余的实验, 配套设施。 这项研究将推动我们的 了解等离子体工艺及其与 生产非常薄的薄膜。 这项研究的结果将是 对发展高性能电子 装置.
项目成果
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专著数量(0)
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