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Engineering Research Equipment: Organometallic Vapor-Phase Epitaxy Reactor with Ultrahigh-Vacuum Interface and Sample Manipulator

工程研究设备：具有超高真空接口和样品操作器的有机金属气相外延反应器

基本信息

批准号：
9310583
负责人：
Robert Hicks
金额：
$ 4.91万
依托单位：
University of California-Los Angeles
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1993
资助国家：
美国
起止时间：
1993-07-01 至 1995-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=9310583&HistoricalAwards=false
关键词：
Engineering Research Equipment Organometallic Vapor

项目摘要

Equipment for the study of organometallic vapor-phase epitaxy (OMVPE) of several semiconductors, including gallium arsenide and cadmium telluride, on such substrates as gallium arsenide or silicon, is being upgraded. The upgrade consists of an OMPVE reactor with an ultrahigh-vacuum (UHV) interface, and a new manipulator for the existing UHV chamber. This will enable the study of surface reactions of organometallic compounds on the crystal surfaces actually found in the OMVPE process. The improved apparatus will be used to study surface chemistry of II-VI compounds, heteroepitaxy of semiconductors, and OMVPE reaction kinetics.//

在砷化镓或硅等衬底上研究几种半导体（包括砷化镓和碲化镉）的有机金属气相外延（OMVPE）的设备正在升级。升级包括一个具有超高真空（UHV）接口的OMPVE反应器，以及一个用于现有UHV腔室的新机械手。这将使研究有机金属化合物在OMVPE工艺中实际发现的晶体表面上的表面反应成为可能。改进后的仪器将用于研究II-VI化合物的表面化学、半导体的异质外延和OMVPE反应动力学

项目成果

期刊论文数量（0）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

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