Engineering Research Equipment: Scanning Tunneling Microscope for Studying Semiconductor Surface Reactions

工程研究设备:用于研究半导体表面反应的扫描隧道显微镜

基本信息

  • 批准号:
    9500387
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 8.29万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    1995
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1995-03-15 至 1997-02-28
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

CTS-9500387 Robert Hicks A scanning tunnelling microscope (STM) is added to a system consisting of a reactor for vapor-phase expitaxy and a chamber for surface analysis. These are interfaced with an ultrahigh-vacuum server that allows transfer of samples among the three stations without exposure to air. The STM is to be used to study the surface structure of II-VI films, the atomic ordering of III-V alloys, the heteroepitaxy of compound semiconductors on silicon, and the molecular kinetics of III-V and II-VI organmetallic vapor-phase epitaxy (OMVPE).
CTS-9500387 Robert Hicks 将扫描隧道显微镜(STM)添加到由气相外延反应器和表面分析室组成的系统中。 它们与一个超高真空服务器连接,使样品在三个站之间转移而不暴露于空气。 STM将用于研究II-VI族薄膜的表面结构、III-V族合金的原子有序性、化合物半导体在硅上的异质外延以及III-V族和II-VI族有机金属气相外延(OMVPE)的分子动力学。

项目成果

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  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 8.29万
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