Development of tunnel field-effect transistor with steep switching based on dimensional control of density-of-state
Development of tunnel field-effect transistor with steep switching based on dimensional control of density-of-state
批准号:
20K14797
负责人:
Kato Kimihiko
金额:
$2.75万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
财政年份:
2020
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2020-04-01 至 2023-03-31
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集積シリコン量子ビット作製に向けた電子線リソグラフィ技術の開発
开发用于制造集成硅量子位的电子束光刻技术
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[山中光一, 峯岸邦夫, 荒木大空, 加藤 公彦]
通讯作者:
加藤 公彦
Si bilayer tunnel field-effect transistor structure realized using tilted ion-implantation technique
采用倾斜离子注入技术实现的硅双层隧道场效应晶体管结构
DOI:
10.1016/j.sse.2021.107993
发表时间:
2021
期刊:
Solid-State Electronics
影响因子:
1.7
作者:
[Kato Kimihiko, Asai Hidehiro, Fukuda Koichi, Mori Takahiro, Morita Yukinori]
通讯作者:
Morita Yukinori
Single-Electron Transistor Operation of a Physically Defined Silicon Quantum Dot Device Fabricated by Electron Beam Lithography Employing Negative-tone Resist
采用负色调光刻胶通过电子束光刻技术制造的物理定义硅量子点器件的单电子晶体管操作
DOI:
--
发表时间:
2022
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Shimpei Nishiyama, Kimihiko Kato, Yongxun Liu, Raisei Mizokuchi, Jun Yoneda, Tetsuo Kodera, and Takahiro Mori]
通讯作者:
and Takahiro Mori
集積シリコン量子素子に向けたネガレジスト電子線リソグラフィ技術の構築
集成硅量子器件负阻电子束光刻技术构建
DOI:
--
发表时间:
2021
期刊:
影响因子:
--
作者:
[加藤 公彦, 柳 永勛, 森田 行則, 森 貴洋]
通讯作者:
森 貴洋
Single-electron transistor operation of a physically defined silicon quantum dot device fabricated by electron beam lithography employing a negative-tone resist
使用负性抗蚀剂通过电子束光刻技术制造的物理定义的硅量子点器件的单电子晶体管操作
DOI:
--
发表时间:
2023
期刊:
The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers (IEICE) Transactions
影响因子:
--
作者:
[Shimpei Nishiyama, Kimihiko Kato, Yongxun Liu, Raisei Mizokuchi, Jun Yoneda, Tetsuo Kodera, and Takahiro Mori]
通讯作者:
and Takahiro Mori
共 10 条
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基于二维高迁移率材料InSe的新型TFET器件物理研究
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批准号:61974176
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项目类别:面上项目
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资助金额:59.0万元
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批准年份:2019
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负责人:梁世军
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依托单位:
混合维度范德瓦尔斯异质结TFET的输运关键技术研究
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批准号:61904136
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:23.0万元
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批准年份:2019
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负责人:陈树鹏
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依托单位:
Si基应变多子沟道TFET研究
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批准号:61704130
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项目类别:青年科学基金项目
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资助金额:24.0万元
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批准年份:2017
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负责人:王斌
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依托单位:
基于多场集中效应的新型TFET高开关电流比理论与结构
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批准号:61574027
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项目类别:面上项目
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资助金额:55.0万元
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批准年份:2015
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负责人:王向展
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依托单位:
硅沟道纳米DG-TFET器件物理,模拟模型和电路设计技术研究
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批准号:61574005
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项目类别:面上项目
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资助金额:68.0万元
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批准年份:2015
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负责人:何进
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依托单位: