Development of Hetero-Materials Integration Technology for Multi-Functional Hybrid Large-Scale Integrated Circuits

多功能混合大规模集成电路异质材料集成技术发展

基本信息

  • 批准号:
    24656209
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2012
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2012-04-01 至 2014-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

To achieve hybrid-integration of multi-functional devices on Si platform, formation techniques of Si1-XGeX(X:0-1) on insulator have been investigated. First, the successive rapid-melting-growth technique has been developed, by utilizing the Ge fraction-dependent melting point of SiGe. This enables formation of multi-layered SiGe templates with different Ge fractions. Second, SiGe template with laterally-graded Ge fraction is achieved by controlling Si segregation during rapid-melting growth. These techniques facilitate heterogeneous integration of new functional devices on Si platform.
为了在硅平台上实现多功能器件的混合集成,研究了在绝缘体上形成Si1-XGeX(X:0-1)的工艺。首先,利用Ge组分依赖于SiGe的熔点,发展了连续快速熔化生长技术。这使得能够形成具有不同Ge分数的多层SiGe模板。其次,通过控制快速熔化生长过程中硅的偏析,获得了具有横向梯度Ge组分的SiGe模板。这些技术有助于在硅平台上实现新功能器件的异质集成。

项目成果

期刊论文数量(22)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Dynamic control of lateral crystallization for Group IV mixed-crystal semiconductor on insulating substrate
绝缘衬底上IV族混晶半导体横向晶化的动态控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    R. Matsumura;H. Chikita;T. Sadoh;and M. Miyao
  • 通讯作者:
    and M. Miyao
Melting-Induced-Mixing in a-Ge/Sn/c-Ge Structures for Sn-Doped Ge Films
Sn 掺杂 Ge 薄膜的 a-Ge/Sn/c-Ge 结构中的熔融诱导混合
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Kinoshita;Y. Tojo;R. Matsumura;T. Sadoh;T. Nishimura;and M. Miyao
  • 通讯作者:
    and M. Miyao
Hybrid-Formation of Single-Crystalline Ge(Si,Sn)-on-Insulator Structures by Self-Organized Melting-Growth
自组织熔融生长杂化形成绝缘体上单晶Ge(Si,Sn)结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    M. Miyao;R. Matsumura;M. Kurosawa;K. Toko;and T. Sadoh
  • 通讯作者:
    and T. Sadoh
Cooling-Rate-Controlled Rapid-Melting-Growth for Giant-Single-Crystal SiGe on Insulator
绝缘体上巨型单晶 SiGe 的冷却速率控制快速熔化生长
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    R. Matsumura;R. Kato;Y. Tojo;T. Sadoh;and M. Miyao
  • 通讯作者:
    and M. Miyao
Giant-Lateral-Growth of SiGe Stripes on Insulating-Substrate by Self-Organized-Seeding and Rapid-Melting-Growth in Solid-Liquid Coexisting Region
  • DOI:
    10.1149/2.003405ssl
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    R. Matsumura;Ryusuke Kato;Y. Tojo;M. Kurosawa;T. Sadoh;M. Miyao
  • 通讯作者:
    R. Matsumura;Ryusuke Kato;Y. Tojo;M. Kurosawa;T. Sadoh;M. Miyao
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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    $ 2.58万
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    2024
  • 资助金额:
    $ 2.58万
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  • 批准号:
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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.58万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

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