光学活性オキサゾリン基を含む不斉反応場の構築と不斉反応場の構築と不斉触媒反応への応用
光学活性オキサゾリン基を含む不斉反応場の構築と不斉反応場の構築と不斉触媒反応への応用
批准号:
07651062
负责人:
平木 克磨
金额:
$1.47万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1995
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1995 至 --
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英文摘要
本研究では、天然の光学活性アミノ酸(S)-バリンから1-[(4s)-4-イソプロピル-2-オキサゾリニル]-2-ブロモベンゼンを合成し、これにブチルリチウムとPPhCl_2を作用させて、光学活性なオキサゾリン基を含むホスフィン、ビス(2-[(4s)-4-イソプロピル-2-オキサゾリニル]フェニル)フェニルホスフィン(NPN)を合成した。これをRhCl_3・3H_2Oと室温で反応させ、[RhCl_3(NPN)](1)を得た。1はfacとmer-型の混合物であった。これをトルエン中還流し、mer-[RhCl_3(NPN)](1b)を単離した。1bのX線構造解析を行い、構造を確認した。1bの配位環境のうち、リン原子のトランス位に2ヶのイソプロピル基による不斉反応場が構築されているのが確かめられた。錯体1bを触媒とし、ジフェニルシラン、メチルフェニルシランを用いてアセトフェノンのヒドロシリル化反応を行った。2-フェニルエタノールがそれぞれ43、55%で得られたが、光学収率は低い値であった。NPN配位子と[{RhCl(COD)}_2](COD=1,5-シクロオクタジエン)との反応により、[RhCl(NPN)]を主成分とする錯体2を得た。2+AgPF_6を触媒とし、α-アセトアミノケイ皮酸の水素化反応を行い、水素圧10気圧でほぼ100%の水素化物が得られた。しかし、この場合も不斉収率は高くなかった。1bにおける不斉反応場の2ヶのイソプロピル基が嵩高過ぎて、基質の接近を妨げていることも考えられる。ルテニウム(II)錯体、トランス-[RuCl_2(CH_3CN)_4]とNPNとの反応により、[RuCl_2(NPN)(CH_3CN)]を得た。^<31>P NMRによると、室温で3種の異性体から成り立っていた。これを加熱すると^<31>P NMRでδ66.0,70.2,73.8にシグナルを示した。一方、[{RuCl_2(p-Cym)}_2](p-Cym=p-シメン)とNPNとの反応により、^<31>P NMRでδ73.8にシグナルを示す錯体が得られた。これは二核構造をもつと推定された。
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会议论文
アミド架橋二核ルテニウム錯体の合成と反応に関する研究
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批准号:09875229
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$0.9万
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财政年份:1997
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
光学活性ビス(フェニルホスフィニト)を配位した金属錯体の合成と不斉合成への応用
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批准号:08875180
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.41万
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财政年份:1996
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
有機ルテニウム錯体の特異的反応性と触媒作用
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批准号:07216257
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.15万
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财政年份:1995
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
有機ルテニウム錯体の特異的反応性と触媒作用
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批准号:06227255
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1994
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
有機ルテニウム錯体の特異的反応性と触媒作用
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批准号:05236231
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.34万
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财政年份:1993
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
アリル化合物に対するヒドリドルテニウム(II)錯体の特異的反応と触媒作用
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批准号:04650778
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1992
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
アルキル基のシクロメタル化による活性化と位置選択的合成への応用に関する研究
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批准号:58550572
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.9万
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财政年份:1983
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
フラボン類を配位子とする金属錯体に関する工業物理化学的研究
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批准号:X00090----155313
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.22万
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财政年份:1976
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
ランタニドおよびスカンジウム錯体触媒を用いる重合に関する研究
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批准号:X00090----855272
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.96万
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财政年份:1973
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
電子スピン共鳴吸収法を用いる配位重合の研究
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批准号:X00210----775425
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.16万
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财政年份:1972
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负责人:平木 克磨
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依托单位:
海外基金