权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

Fabrication of Electron Source with Electron-Wave Interference by Nano Beam Induced Deposition Process

纳米束诱导沉积电子波干涉电子源的制作

基本信息

批准号：
19206008
负责人：
TAKAI Mikio
金额：
$ 28.95万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
起止时间：
2007 至 2010
项目状态：
已结题

项目摘要

1. ナノビーム誘起堆積プロセスによるナノ間隙電子源の作製これまでの研究で明らかにした最適なプロセスパラメータを用いて、プラチナナノ間隙電子源を作製した。このとき、エミッタの先端部分がナノ間隙となった電子の隣接放出サイトを形成した。電子源の作製と2.のパターンの観察とを繰り返して、コヒーレンスの良い電子線が得られる電子源の作製が可能となった。2. ナノ間隙電子源から放出される電子線パターンの観察ナノ間隙電子源から放出される電子線の放射パターンを観測し、電子線の干渉縞を制御するための研究を行った。電子源からの放出電子の干渉性を大きくするために、エミッタのプロセス温度の最適化を行った。また、エミッタ材料の結晶性や不純物分布などがエミッション特性に与える影響についても検討した。室温でのエミッションの閾値の評価と、エミッションパターンの観測を行う他に、研究期間内に完成させた装置によりエミッタをヘリウム温度程度に冷却し、その時のフィールドエミッションパターンとフィールドイオンマイクロスコピーの評価を行い、ナノ間隙の電子放出サイトの特定とプロセス条件や先端形状が、干渉縞に与える影響を明らかにした。3. 電子のコヒーレンス長と可干渉これまで得られた堆積プラチナ層の電子のコヒーレンス長と、プラチナエミッターより激出された電子の干渉縞の関係を明らかにした。さらに、室温でコヒーレンスの良い電子線を安定に得るためのエミッタ作製条件を決定した。また、このエミッタを用いたゲート付き電子源を作成することが出来、素子応用への可能性を検討した。

1. This is the most important thing to know that the gap power source is used as a source of electricity. There is a gap at the front end of the transmission line, and there is a gap between the two ends of the bridge. The operation of the computer source is not available. It is necessary to check that the power supply may be damaged if the cable is in good condition and the cable is in good condition. two。 The gap electron source is used to monitor the gap electron source, to emit the power line, to emit the power line, to control the research line. The temperature of the electricity source is the most sensitive to the temperature of the generator. The properties of the materials are not affected by the distribution of crystals. The properties of the materials are different from those of the materials. The temperature of the equipment should be completed during the period of the study. the temperature of the equipment should be cooled during the period of the study. the temperature of the equipment should be cooled during the period of the study. the temperature should be cooled in the temperature range. The gap generator emits the shape of the end of the device, the shape of the end, and the effect of the gap electrons on the specific parameters. 3. The electrical equipment can be used for long periods of time, but it can be used for a long time. Temperature, room temperature temperature, temperature, The power supply is made out of the electric power source of the telephone, and the possibility of the material is used to generate electricity.

项目成果

期刊论文数量（42）

专著数量（0）

科研奖励数量（0）

会议论文数量（0）

专利数量（0）

Observation of electron wave interference pattern from Pt field emitter fabricated by beam-induced deposition

束诱导沉积 Pt 场发射体电子波干涉图的观察

DOI：
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
0
作者：
K.Murakami;T.Matsuo;F.Wakaya;M.Takai
通讯作者：
M.Takai

ransmission-electron-microscope observation of Pt pillar fabricated by electron-beam-induced deposition

电子束诱导沉积制备的 Pt 柱的透射电子显微镜观察

DOI：
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
0
作者：
K.Murakami;N.Matsubara;S.Ichikawa;T.Nakayama;K.Takamoto F.Wakaya;M.Takai;S.Petersen;H.Ryssel
通讯作者：
H.Ryssel

Three dimensional measurement of nano structures by single event TOF-RBS with nuclear nano probe

核纳米探针单粒子 TOF-RBS 纳米结构三维测量

DOI：
发表时间：
2011
期刊：
Nucl.Instr.Meth.B in press
影响因子：
0
作者：
Satoshi Abo;Shunya Kumano;Takayuki Azuma;Ryota Sugimoto;Katsuhisa Murakami;Fujio Wakaya;Mikio Takai
通讯作者：
Mikio Takai

Electron wave interference induced by electrons emitted from Pt field emitter fabricated by focused-ion-beam-induced deposition

聚焦离子束诱导沉积制备的 Pt 场发射体发射电子引起的电子波干涉