GaN晶圆CMP机理研究及高效率开发-猫眼课题宝

GaN晶圆CMP机理研究及高效率开发

批准号：

16H02305

负责人：

Kuriyagawa Tsunemoto

金额：

$28.87万

依托单位：

Tohoku University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for Scientific Research (A)

财政年份：

2016

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

2016-04-01 至 2019-03-31

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16H02305/

关键词：

GaN CMP ナノバブル分子動力学シミュレーションテープ研磨加工紫外線援用加工 OHラジカルサブサーフェースダメージ窒化ガリウムテープ研磨ナノダイヤモンド量子分子動力学シミュレーション紫外線援用化学機械研磨テープ研削

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作者：

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影响因子： --

作者：

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通讯作者：木村颯太