レーザー分光法による光励起表面脱離粒子の速度計測

使用激光光谱测量光激发表面解吸颗粒的速度

• 批准号: 04223204
• 负责人: 前田 三男
• 金额: $ 1.6万
• 依托单位: Kyushu University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
• 财政年份: 1992
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1992 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-04223204/
• 关键词: 光プロセス; タイム・オブ・フライト; レーザー分光法; 高温超伝導膜; 共鳴多光子イオン化法; レーザー誘起蛍光法; 速度分布計測

プロセス中の気相素過程における中間反応種のin Situな計測法として,レーザー分光法は大変有用である。本研究ではレーザー誘起蛍光(LIF)法と共鳴多光子イオン化(REMPI)法を用いて,光プロセス中の温種ラジカルの密度や速度分布を,高い時間・空間分解能で計測する技術を開発し,表面との反応を含めたプロセス動力学の解明を行なおうとするものである。本年度は本重点領域研究の最終年度にあたるが,さらにLIF法を表面相互作用の計測に拡張するため,レーザーアブレションの際の放出粒子の速度分布等をLIFとTOF(飛行時間測定)を組合せた方法で解明する研究を行った。これまでの主な成果をまとめると以下の通りである。1.ジシランのArFレーザによる一光子分光解によって生成した各種ラジカルを,LIFとREMPI(共鳴多光子イオン化法)で観測し,その拡散・反応過程を研究した。測定したのは,Si,Si^*,SiH,Si_2,HでSiH_3は検知することができなかった。2.高温超伝導膜生成の際に重要なArFレーザでアブレイトしたYBaCuOプルーム中のBa,BaO,YOなどの粒子をLIF-TOF計測し,その速度分を求めた。3.ArFレーザーでアブレイトした粒子群のガス中での運動や基板近傍ディテクターアレイでそのLIFを見ることによって一次元的に観測した。

In the process of measuring the phase elements in the system, several kinds of in Situ measurement methods are used in the process, and the spectrophotometry is useful. In this study, the multiphoton optical spectroscopy (LIF) method is used to analyze the multiphoton optical spectroscopy (REMPI) method, the density velocity distribution of the temperature sensor in the optical microscope, the space-time decomposition of the temperature sensor in the high temperature range, and the dynamic analysis of the temperature field in the high temperature range. This year, the focus of this year is to study the most recent years of research, the LIF method of surface interaction measurement, the measurement of the velocity distribution of the emitted particles, and the combination of the LIFTOF (travel time measurement) method to understand the performance of the study. Please tell me the following information about the main results. 1. The purpose of this paper is to determine the effect of one-photon spectrophotometry on the generation of various kinds of photon spectroscopy, the ArF (common multiphoton spectroscopy) spectroscopy, and the analysis of the process. Measure the temperature, Si, Si ^ *, SiH,Si_2, HV sih _ 3 and know that the temperature is different. two。 High temperature ultra-high temperature film formation is very important. In the YBaCuO film production, the Ba,BaO,YO particles are calculated by LIF-TOF, and the velocity is calculated by the speed method. 3.ArF is sensitive to particle swarm optimization. The substrates are close to the substrate. The LIF is sensitive to the size of the particles.

项目成果

Tatsuo Okada他: "Diagnosties of Gas-Phase Processes in Laser Induced Chemical Vapour Deposition by Laser Spectroscopy" Lasers Engineerng. 1. 49-66 (1991)

Tatsuo Okada 等人：“通过激光光谱诊断激光诱导化学气相沉积中的气相过程”，《激光工程》1. 49-66 (1991)。

Tatsuo Okada 他: "Characteristics of Plasma-Enhanced Photoemission form Thin Films during Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal Applied Physice. 30. L1591-L1593 (1991)

Tatsuo Okada 等人：“等离子体辅助化学气相沉积过程中薄膜的等离子体增强光电发射特性”，日本应用物理学杂志 30。L1591-L1593 (1991)

前田 三男他: "光およびプラズマを用いた薄膜堆積過程のレーザー分光計測" 光学. 20. 2-9 (1991)

Mitsuo Maeda 等人：“使用光和等离子体进行薄膜沉积过程的激光光谱测量”光学。 20. 2-9 (1991)

Tastuo Okada他: "Investigaions of Behavior of Particles Gdnerated from Laser-Ablated YBa_2 Cu_3 O_<7-X> Target Using Laser-Induced Fluorescence" Applied Physics Letters. 60. 941-943 (1992)

Tastuo Okada 等人：“利用激光诱导荧光研究激光烧蚀 YBa_2 Cu_3 O_<7-X> 靶标生成的粒子的行为”应用物理快报 60. 941-943 (1992)。

Tatsuo Okada他: "Laser Spectroscopic Detections of Radicals Generated by an ArF Laser Photolysis of Disilane" Japanese Journal of Alppied Physics. 31. 3707-3711 (1992)

Tatsuo Okada 等人：“乙硅烷的 ArF 激光光解产生的自由基的激光光谱检测”日本阿尔卑斯物理学杂志 31. 3707-3711 (1992)