レ-ザ-分光法による光励起プロセスの気相素過程の計測
使用激光光谱测量光激发过程中的气相基本过程
基本信息
- 批准号:03239209
- 负责人:
- 金额:$ 1.98万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:1991
- 资助国家:日本
- 起止时间:1991 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
プロセス中の気相素過程における中間反応種のin Situな計測法として,レ-ザ-分光法は大変有用である。本研究ではレ-ザ-誘起蛍光(LIF)法と共鳴多光子イオン化(REMPI)法を用いて,光プロセス中の各種ラジカルの密度や速度分布を,高い時間・空間分解能で計測する技術を開発し,表面との反応を含めたプロセス動力学の解明を行なおうとするものである。本年度は昨年度に引き続きジシランのArFレ-ザ-による光解離プロセスの気相過程の研究を行なったが,さらに新しく,レ-ザ-アブレ-ションの際の放出粒子の速度分布等をLIF(レ-ザ-誘起蛍光法)とTOF(飛行時間測定)を組合せた方法で解明する研究を行なった。これまでの主な成果をまとめると以下の通りである。1.ジシランのArFレ-ザ-による一光子光分解によって生成した各種ラジカルを,LIFとREMPI(共鳴多光子イオン化法)で観測し,その拡散・反応過程を研究した。測定したのはSi,Si^*,SiH,Si_2,Hで,SiH_3は検知することができなかった。2.高温超伝導膜生成の際に重要なArFレ-ザ-でアブレイトしたYBaCuOプル-ム中のBa,BaO,YOなどの粒子をLIFーTOF計測し,その速度分布を求めた。3.ArFレ-ザ-でアブレイトしたAl原子の基板への付着状況を,ディテクタ-アレイでそのLIFを見ることによって観測することを試みた。今後はさらにアブレ-ション過程の研究をより詳細に行なってゆく予定である。
The method of measurement in Situ is very useful in the process of phase change. In this study, the application of LIF method and REMPI method was studied. The density and velocity distribution of various kinds of particles in the optical field were studied. The measurement technology of high temporal and spatial resolution energy was developed. The surface reflection was studied. This year, we have conducted research on the phase evolution of photodissociation in the field of photodissociation, and have conducted research on the velocity distribution of emitted particles during photodissociation (LIF) and time of flight (TOF). The main result of this is that 1. To study the processes of light scattering and light reflection by means of LIF and REMPI(Resonance Multiphoton Photolysis). Si,Si^*, SiH, Si_2, H, SiH_3 were measured. 2. It is important to measure the velocity distribution of Ba,BaO,YO particles in the formation of high temperature superconducting films. 3. ArF- In the future, we will study the process of the disease in detail.
项目成果
期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Tatsuo Okada 他: "Diagnostics of GasーPhase Processes in Laser Induced Chemical Vapour Deposition by Laser Spectroscopy" Lasers Engineering. 1. 49-66 (1991)
Tatsuo Okada 等人:“通过激光光谱诊断激光诱导化学气相沉积中的气相过程”,《激光工程》1. 49-66 (1991)。
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
前田 三男 他: "光およびプラズマを用いた薄膜堆積過程のレ-ザ-分光計測" 光学. 20. 2-9 (1991)
Mitsuo Maeda 等人:“使用光和等离子体进行薄膜沉积过程的激光光谱测量”光学。 20. 2-9 (1991)
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Tatsuo Okada 他: "Laser Spectroscopic Detections of Radicals Generated by an ArF Laser Photolysis of Disilane" Japanese Journal of Alppied Physics.
Tatsuo Okada 等人:“乙硅烷的 ArF 激光光解产生的自由基的激光光谱检测”日本阿尔卑斯物理学杂志。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Tatsuo Okada 他: "Characteristics of PlasmaーEnhanced Photoemission from Thin Films during PlasmaーAssisted Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 30. L1591-L1593 (1991)
Tatsuo Okada 等人:“等离子体辅助化学气相沉积过程中薄膜的等离子体增强光电子发射特性”,日本应用物理学杂志 30。L1591-L1593 (1991)。
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
Tatsuo Okada 他: "Investigations of Behavior of Particles Generated from LaserーAblated YBa_2 Cu_3 O_<7-X> Target Using LaserーInduced Fluorescence" Applied Physics Letters.
Tatsuo Okada 等人:“利用激光诱导荧光对激光烧蚀 YBa_2 Cu_3 O_<7-X> 靶产生的粒子的行为进行研究”应用物理快报。
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- 作者:
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