レ-ザ-分光法による光励起プロセスの気相素過程の計測

使用激光光谱测量光激发过程中的气相基本过程

基本信息

  • 批准号:
    03239209
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.98万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1991
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1991 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

プロセス中の気相素過程における中間反応種のin Situな計測法として,レ-ザ-分光法は大変有用である。本研究ではレ-ザ-誘起蛍光(LIF)法と共鳴多光子イオン化(REMPI)法を用いて,光プロセス中の各種ラジカルの密度や速度分布を,高い時間・空間分解能で計測する技術を開発し,表面との反応を含めたプロセス動力学の解明を行なおうとするものである。本年度は昨年度に引き続きジシランのArFレ-ザ-による光解離プロセスの気相過程の研究を行なったが,さらに新しく,レ-ザ-アブレ-ションの際の放出粒子の速度分布等をLIF(レ-ザ-誘起蛍光法)とTOF(飛行時間測定)を組合せた方法で解明する研究を行なった。これまでの主な成果をまとめると以下の通りである。1.ジシランのArFレ-ザ-による一光子光分解によって生成した各種ラジカルを,LIFとREMPI(共鳴多光子イオン化法)で観測し,その拡散・反応過程を研究した。測定したのはSi,Si^*,SiH,Si_2,Hで,SiH_3は検知することができなかった。2.高温超伝導膜生成の際に重要なArFレ-ザ-でアブレイトしたYBaCuOプル-ム中のBa,BaO,YOなどの粒子をLIFーTOF計測し,その速度分布を求めた。3.ArFレ-ザ-でアブレイトしたAl原子の基板への付着状況を,ディテクタ-アレイでそのLIFを見ることによって観測することを試みた。今後はさらにアブレ-ション過程の研究をより詳細に行なってゆく予定である。
激光光谱学非常有用,作为在此过程中气相过程中中间反应物的原位测量。在这项研究中,我们将开发一项技术,以使用激光诱导的荧光(LIF)(LIF)和谐振多光子电离(REMPI)方法来测量具有较高时间和空间分辨率的各种自由基的密度和速度分布,我们将尝试阐明过程动力学,包括与表面的反应,包括与表面的反应。今年,在去年之后,我们对使用ARF激光器进行了对尿烷光解离过程的气相过程进行了研究,我们还进行了一项新的研究,以阐明激光消融过程中释放颗粒的速度分布,结合使用LIF(激光诱导的荧光)和TOF(超级测量时间)。迄今为止的主要结果总结如下:1。使用LIF和REMPI(谐振剂多光子离子化方法)观察到通过ARF激光单光子光解会产生的各种自由基,并研究了扩散和反应过程。测得的值是无法检测到Si,Si^*,SiH,Si_2和H,并且无法检测到SIH_3。 2。进行了用ARF激光烧蚀的Ybacuo Pullets中的粒子的LIF-TOF测量值,对产生高温超导膜很重要,并确定速度分布。 3。我们试图通过使用检测器阵列查看LIF来观察ARF激光在底物上消融的Al原子的粘附。将来,我们计划对消融过程进行进一步的详细研究。

项目成果

期刊论文数量(10)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Tatsuo Okada 他: "Diagnostics of GasーPhase Processes in Laser Induced Chemical Vapour Deposition by Laser Spectroscopy" Lasers Engineering. 1. 49-66 (1991)
Tatsuo Okada 等人:“通过激光光谱诊断激光诱导化学气相沉积中的气相过程”,《激光工程》1. 49-66 (1991)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Tatsuo Okada 他: "Laser Spectroscopic Detections of Radicals Generated by an ArF Laser Photolysis of Disilane" Japanese Journal of Alppied Physics.
Tatsuo Okada 等人:“乙硅烷的 ArF 激光光解产生的自由基的激光光谱检测”日本阿尔卑斯物理学杂志。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
前田 三男 他: "光およびプラズマを用いた薄膜堆積過程のレ-ザ-分光計測" 光学. 20. 2-9 (1991)
Mitsuo Maeda 等人:“使用光和等离子体进行薄膜沉积过程的激光光谱测量”光学。 20. 2-9 (1991)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Tatsuo Okada 他: "Characteristics of PlasmaーEnhanced Photoemission from Thin Films during PlasmaーAssisted Chemical Vapor Deposition" Japanese Journal of Applied Physics. 30. L1591-L1593 (1991)
Tatsuo Okada 等人:“等离子体辅助化学气相沉积过程中薄膜的等离子体增强光电子发射特性”,日本应用物理学杂志 30。L1591-L1593 (1991)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Tatsuo Okada 他: "Investigations of Behavior of Particles Generated from LaserーAblated YBa_2 Cu_3 O_<7-X> Target Using LaserーInduced Fluorescence" Applied Physics Letters.
Tatsuo Okada 等人:“利用激光诱导荧光对激光烧蚀 YBa_2 Cu_3 O_<7-X> 靶产生的粒子的行为进行研究”应用物理快报。
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    $ 1.98万
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